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GaAs基盤をNH4OH(水酸化アンモニウム) + H2O2(過酸化水素)の水溶液で
エッチングするとき、どのような反応が起こっているか教えてください。お願いします。できれば化学反応式なんかも教えていただければ幸いです。

A 回答 (2件)

もし英語が苦手でよく分からないときは、この質問を締め切らないで、「回答へのお礼」で分からない箇所を質問して、この質問をずっと開いておくことをお薦めします。

もちろん私が回答(翻訳)します。
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元・化合物半導体プロセスエンジニアです。


上記エッチャントは、(100)基板にV溝を形成したり、AlxGa1-xAs (x>0.3)との選択エッチングに使った経験があります。

そのものズバリの文献(学位論文)があります[1]。182ページの大著で、しかも英語ですが、勉強のために是非読破してください。ご質問の部分は以下の節に書いてあります。ページ数が多くて探すのが大変そうなのでページ数を併記しておきました。1.2節(GaAsプロセスにおけるウェットエッチングの使用例:PDF 20ページ)も参考になるかと思います。

2章 以前の研究(PDF 31ページ)
  2.1 GaAsのウェットエッチング液
  2.2 エッチング反応の研究
    2.2.1 エッチングメカニズム(PDF 35ページ)
    2.2.2 H2O2-NH4OH-H2O2でエッチングされたGaAsにおけるエッチング液濃度とそれ以外の要素(PDF 38ページ)
  2.3 H2O2-NH4OH-H2O2を用いた異方性エッチング(PDF 40ページ)
  2.4 エッチング速度限界(PDF 45ページ)
  2.5 エッチングされたGaAsの表面分析(PDF 51ページ)

[1] H2O2-NH4OH-H2O溶液におけるGaAsのエッチングメカニズムの動力学的研究 http://www.collectionscanada.ca/obj/s4/f2/dsk2/f …
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この回答へのお礼

ありがとうございました。さっき論文をダウンロードしたばかりでまだちょっとしか見ていないのですが、私の知りたい内容が書かれていると思います。これから早速読んでみます。指定していただいたページ以外も読んだほうが勉強になりそうですね。

お礼日時:2007/05/14 09:30

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