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半導体の製造過程において、回路の微細化に伴いリソグラフィのための露光光源が短波長化されてきたのはなぜですか?教えてください!

A 回答 (1件)

その業界の経験者です。



こういう説明はあるのですが・・・
http://semiconductor.seesaa.net/article/140492.h …


私は、いつも、下記のようなたとえ話で説明しています。

微細な回路を、白黒の縦じま模様と考えることにします。
縦じま模様がだんだん細かくなっていくと、ついに、人間の目には模様が認識できず、一様な灰色に見えてしまいます。
細かい縦じまを見ようとするならば、眼鏡、虫眼鏡、顕微鏡などを使うことにより「視力をアップ」させることが必要になります。

露光の光源から出る光の波長が長い(視力が悪い)と、縦じまは光にとって「灰色に見えて」しまい、配線を描くことができません。
波長を短くすれば、縦じま模様のパターンをフォトレジストに描くことができます。


なお、
上記のたとえ話では、視力≒波長の短さ としていますが、視力と波長を変えるととは違いますので、あくまでも、たとえ話ということでご了承ください。


では、たとえ話でない説明を下記に。

光源からの光が、パターンの細かいマスク(レチクル)を通過するとき、波長が長い場合は開口部を通過後に、回折により左右に回り込んでしまいます。これにより、ただしくパターンを描けなくなります。
波長を短くすると、開口部を通過後も、あまり回折せずにすませられるわけです。
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この回答へのお礼

詳しい例えに、説明ありがとうございました。

お礼日時:2008/01/15 19:36

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