No.2ベストアンサー
- 回答日時:
>n型シリコン基板上でpウェル領域のあるCMOSインバータの回路図を書きたいときには、基板やウェルの>種類が変わることによって添付したMOSFETの記号も変わるのでしょうか。
その場合はn基板上にPchMOSFETを、Pwell上にNchMOSFETが形成されると思いますが記号としては同じです。
つまりPchMOSFETのバックゲートはn基板ですのでバックゲートのnは最高電位のPchMOSFETのソースに接続されます。またPwell上に形成されるNchMOSFETのバックゲートはPwellになりますのでバックゲートのpは最低電位のNchMOSFETのソースに接続されます。
つまり、元の基板の種類によってPchMOSFETもNchMOSFETもバックゲートがウェルになったり基板になったりするという話なんですね。
自分は資料の"この場合はnウェル"という言葉に引っかかりすぎていたみたいでそれがpウェルに変わったらそれに対応して記号に変化が生じるのだろうかと勘違いしていたようです。ネットで探しても同じ回路図しか出ないことに納得がいきました。度々わかりやすい解説ありがとうございます。
No.1
- 回答日時:
とりあえず、質問に答えれば、MOSFETの記号は変わりません。
>p型シリコン基板上でnウェル領域のあるCMOSインバータ
っていうのは、P型の単結晶シリコンウェハーを買ってきてそこにNMOS,その上にNウェルを作ってPMOSを作りこむ、みたいなイメージをしている?
半導体メーカーによって作り方は違うので一般的な話ではないのですが、多くのメーカーでは、p型の単結晶ウェハーを買ってきて、まず、その上にNウェルを作って、さらにその上にPウェルを作ってそこにNMOS、さらにその上にNウェルを作ってそこにPMOS、を作りこんでいます。
自分は学生の身なので一般的なMOSプロセスしか学んでおらず、専門的なことまではわかりませんが、実際に半導体メーカーで働いていらっしゃる方の意見はとても参考になりました。お答えしていただき、ありがとうございました。
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