金属薄膜について教えてください

　ご教授下さい！何日か前に私は高純度なインジウムのスパッタリングを試みました。Si基板上にスパッタを行ったのですが、期待していた膜の色（金属色）にはならず、やや黒っぽい灰色の膜が形成されていました。顕微鏡で内部を見るとインジウム粒子が光沢を放っている部分はあるのですが、Siと合金になってしまったような部分(黒い粒子）も見受けられます。

　そこで、インジウムをSi上にスパッタした事のある方、又は薄膜形成に詳しい方、教えてください。内部に金属光沢があっても、薄膜表面の色（干渉色）が金属色でなければスパッタされたとは言えないでしょうか？また、インジウムをSi上に直接スパッタすると何らかの合金になってしまうのでしょうか？教えてください！

No.2 回答者： noname#8161 回答日時： 2004/11/11 22:17

スパッタリングとビーム方式は異なります。

めっき、真空蒸着、ビーム方式、スパッタリング
の4つはそれぞれの特長があります。

もっと詳しい方がいると思いますが、きれいに？成膜
出来ない原因として、

(1) 基板洗浄の問題（ 汚れ残りの問題）
(2) 膜厚が薄すぎる ( 加工時間が短い ）
(3) 不純物の問題

あたりでいかがでしょうか？
スパッタリングの場合、分子レベルで膜の物質
が飛ぶので境界の表面レベルでは何らかの化合物に
なってしまっているのかもしれないですね。
その場合は膜厚を厚くすれば解決するように思います。

No.1 回答者： bathbadya 回答日時： 2004/11/11 12:37

うろ覚えの知識で恐縮ですが「スパッタリング」は電子ビームで打ち込む方式だったのでは？　従って出来た表面はインジウムとSiの傾斜材になるのでは？

メッキや蒸着のたぐいでは表面に「のる」形で材料の境界がはっきりしますよね？