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フォトレジストの基板の密着性でリン酸処理後の洗浄方法によって
密着性が落ちることはあるのでしょうか?

A 回答 (2件)

基板とはSi or 金属膜堆積後Siですか?


洗浄とは、HPM、APMを指しているのでしょうか?

補足お願いいたします。

この回答への補足

専門的な話ですみません。WFは下地が酸化膜です。そこにリン酸処理
(ある膜のエッチング処理後)をすると次工程でレジストが剥がれて
しまいます。おそらくこれはリン酸がWF表面で悪さをして、レジストの
密着性に悪影響を及ぼしているのでは?と思っています。
どんなんでしょうか??

補足日時:2001/08/31 00:55
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どのような意図からの質問でしょうか?


さらに、「フォトレジスト」はどのようなものを使用した場合なのでしょうか・・・?

補足お願いします。
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