工学の大学院で勉強・研究しています。
固体金属の表面を観測する技術というのはどこまでいっているのでしょうか。
AES・XPS・LEEDなどの表面に対して敏感な分析器が多々ありますが、
単原子層レベルでの観測で最新のものというのどの程度の表面を観測できるのか、
ちょっと疑問に思いました。
こういう目に見えないものを相手にしていると、
分析器の性能というより分析室や試料に
神経質なくらい気を使ったほうがいいのでしょうか・・・。
現在の定量分析の精度について、なんでも良いので教えてください。
よろしくお願いします。

A 回答 (3件)

No2のtomoyukiさんに関連して・・・



試料表面が清浄でなければならないので超高真空が必要というお話でしたが、現在は溶液中でも清浄表面
を作り出すことは出来ます。この場合、超高真空に変わるものとして超純水が必要になりますが・・・
固体/液体界面の研究も超高真空に負けないくらいホットな研究が行われています。表面プローブの手法
としてAES、LEEDといった電子をプローブとした手法は使えませんが、その代わり光をプローブとした手
方が有効になります。赤外反射吸収分光、ラマン・・etc.もっと高度な手法として非線形光学現象を利用
した表面プローブもあります。表面第二次高調波発生分光、表面和周波発生分光・・・この非線形分光の
特徴は反転対称性がくずれる界面(表面)のみの情報が得られるということです。
光を使うので、非破壊、非接触、おまけに高い時間分解能を有するという特徴もあります。

*STM、AFMといった測定も、もちろん固体/液体界面に適用されています。
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あまり参考にならないかと思いますが、少し関係のある研究をしているので、書きます。


どの程度の表面を観測できるのか?という質問ですよね。
AFMやSTMは、原子一つ一つを認識できるのではないでしょうか。
当然、試料表面は清浄でなければならないので、超高真空が求められます。あ、でもAFMは液中のもありますね。
STMだと、超高真空中でも、半導体にイオン照射しながらその場で観察することもできるようです。結晶の欠陥ができて、変化する様子とか。
ちょっと定量分析とは的外れでした、すみません。
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 私自身は表面分析とはほとんど関係がありませんので,的外れな回答かも知れませんが。



 日本電子(JEOL)のペ-ジ(↓)に関連しそうな分析機器の事が出ていますのでご紹介しておきます。「製品情報」や「技術情報」の「電子光学機器」の所をご覧になってみて下さい。

参考URL:http://www.jeol.co.jp/
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