今度高校の課題研究で酸化薄膜を張った伝導性ガラスを作ることになりました。
文献を見ていた時、よくわからない言葉が出てきて困っています。
それで、次の3つの言葉についてご存知の方は、ぜひ教えてください。
1.スパッタリング法
2.I.T.O.膜
3.ゾル・ゲル法
    よろしくお願いします。

A 回答 (3件)

ちょっと専門的なようですが、以下の参考URLサイトはいかがでしょうか?


「ゾル-ゲル法とエキシマレーザ照射を併用した緑色発光を示す酸化亜鉛薄膜の低温合成」
http://www.cmcbooks.co.jp/books/mat/T269.htm
(ゾル-ゲル法応用技術の新展開)

「ゾルゲル」に関する成書としては、
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ゾルーゲル法の科学 機能性ガラスおよびセラミックスの低温合成  作花済夫∥著
出版地 :東京
出版者 :アグネ承風社
出版年月:1988.7
資料形態:221,6p  22cm  3400円
件名  : ガラス/ セラミックス
内容  : 各章末:参考文献
ISBN:4900508128
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ご参考まで。
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 それでは私はスパッタリング法について。


 プラズマが物質表面に衝突して原子や分子を叩き出す現象をスパッタ(スパッタリング)といいます。またこの叩き出された原子や分子を基板上に堆積させる技術をスパッタ法(スパッタリング法)といいます。蛍光灯の端が黒ずんでくるのもスパッタによるものです。
 このスパッタ法には、下記のような特長があります。
  1.ターゲット組成に近い薄膜が得られる。
  2.高融点の物質の薄膜が得られる。
  3.薄膜の基板への付着力が大きい。
 またスパッタ法には、参考URLにあるように種々の方式がありますが、今回のような酸化薄膜の形成には、簡単な構造のマグネトロンスパッタ方式を利用するのではないかと思われます。参考URLの図は断面図なのでわかりにくいですが、ターゲットとその裏面に置く磁石も円板状ですので、発生する磁力線もそれに沿ってドーナツの半分形状となります。
 ITOはKookooさんのおっしゃる通りIndium Tin Oxideですね。透明電極や導電材料となりますが、ITO薄膜の形成はスパッタ法やイオンプレーティングなどで行われます。ここで、ITOとスパッタが繋がるのですね。

参考URL:http://spin.pe.titech.ac.jp/hp/research/sputter/ …
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いずれも知識が曖昧なのですが。

。。

スパッタリング法は、真空成膜法のひとつですね。金属や誘電体などの無機化合物に高電圧をかけ、プラズマ状態にして叩き出し、成膜対象に膜として形成する方法です。(だったはず)
ITOはIndium Tin Oxideのことです。和名は酸化インジウムスズだったかな?透明導電膜として非常に一般的です。
ゾルゲル法は、金属酸化物の薄膜を溶液から形成する方法です。例えば、シリカの薄膜を形成するのであれば、Si(OR)4などのアルコキシシランのアルコール系溶液を出発原料とし、ゾル溶液としたのちに塗布・乾燥してゲル化させます。これを高温焼成することでアルコキシ基の脱水縮合が進行し、シロキサン結合が形成されます。触媒の添加によって反応は加速されます。

すみません、いずれも知識が曖昧なので、間違い等もあるかと思います。
でも、おおまかには以上の通りだと思います。
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