「有機EL」という技術が最近話題になっています。


有機ELとは、
『電圧を加えると発光する有機物を用いたディスプレイ』
らしいのですが・・・

有機物と聞いて連想するのは、生命体などの肉質、野菜などの植物などを構成する物質などです。



【有機EL素子の構造】
ガラス基板上にアノード(陽極)、HTL(正孔輸送層)、EML(発光層)、ETL(電子輸送層)、カソード(陰極)を積層したもので陰極から陽極のエネルギーギャップを発光層の蛍光、もしくは燐光に変換する仕組みです。

と、一見した限りでは有機物質を使っているようには見えません。


一体どういう事なんでしょうか?

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A 回答 (3件)

>有機物と聞いて連想するのは、生命体などの肉質、野菜などの植物などを構成する物質などです。



 おっしゃるとおりで、もともとは有機物とは生命体を構成する、もしくは生命体が作り出す物質のことで、無機物とは区別されていたのです。
 ところが1828年にドイツのウエーラーが、無機物のシアン酸アンモニウムから有機物の尿素を合成できることを発見して以来
生命体が作り出す物質に限らなくなり、
今日では炭素を含む化合物が有機物であると定義されているのです。
 ただし、炭素を含む化合物でも、一酸化炭素、二酸化炭素、シアン化合物、炭酸塩などは無機物として扱われています。
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この回答へのお礼

ありがとうございます。

>今日では炭素を含む化合物が有機物であると定義されているのです。ただし、炭素を含む化合物でも、一酸化炭素、二酸化炭素、シアン化合物、炭酸塩などは無機物として扱われています。

何となく、「C(炭素)、H(水素)、O(酸素)」を含むものが有機物質である、みたいなイメージがありますよね。
そこの違いなんでしょうね・・・

お礼日時:2009/08/06 21:01

特許庁の報告書 

http://www.jpo.go.jp/shiryou/pdf/gidou-houkoku/1 …

を見ると、その1ページに原理が示され、

>【有機EL素子の構造】
>ガラス基板上にアノード(陽極)、HTL(正孔輸送層)、EML(発光層)、ETL(電子輸送層)、カソード(陰極)を積層したもの・・

 この中の「EML(発光層)」が、有機化合物(低分子系、高分子系)でできているようです。
 具体的な材料については、34、35ページの「出願年表」に載っています。

そもそも、「有機物」とは?となりますが(私だけ?)、

 ・有機体すなわち動植物体を構成している物質。
 ・炭素を含む化合物の総称。

有機EL素子については、後者のようです。
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この回答へのお礼

ありがとうございます。

高校の化学で嫌という程やった有機の分野を思い出しました。

嫌という程「C(炭素)」を見ました。

必ずと言っていい程、有機には炭素が含まれているんですよね。
すっかり忘れていました。

お礼日時:2009/08/06 20:59

発光層が「有機材料を蒸着により薄膜化・積層化することによりデバイスを作成されている。


http://wpedia.goo.ne.jp/wiki/%E6%9C%89%E6%A9%9F% …

有機物は、石油系やプラスティックなどの高分子も入ります。
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この回答へのお礼

ありがとうございます。

なるほど、確かに有機物はC(炭素)によっても構成されてますもんね。

お礼日時:2009/08/06 20:56

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手助けおねがいします。

・Assuming the scable law of Coulombic degradation for driving at 100cd/m2 , the half-life is projected to be over 50000h.

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Aベストアンサー

前後の文章も含めると以下のようになります。

(1) MoO3バッファ層を入れることでデバイスの信頼性が著しく向上する。MoO3の厚さが20nmと15nmで、封止されたデバイスの寿命を、8mA/cm^2の一定の電流密度で駆動して調べてみた。初期の輝度はそれぞれ 820 cd/m^2 と1000 cd/m^2 である。比較のために、CuPcバッファ層を入れたデバイス(初期輝度 183 cd/m^2)の寿命も測定した。図2に示したように、MoO3バッファ層を使うことによって、820 cd/m^2 の初期輝度では 6000時間以上、1000 cd/m^2 の初期輝度では 1000時間以上の輝度半減期(輝度が半分になる時間)に達している。この時間は、CuPcを使ったデバイスでの 510時間よりも明らかに長い。クーロン劣化のスケール則に従うと仮定すれば、輝度が 100 cd/m^2 のときの輝度半減期は 5万時間以上になると予想される。MoO3の厚さがこれ以外の場合でも同様の信頼性を示した。

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前後の文章も含めると以下のようになります。

(1) MoO3バッファ層を入れることでデバイスの信頼性が著しく向上する。MoO3の厚さが20nmと15nmで、封止されたデバイスの寿命を、8mA/cm^2の一定の電流密度で駆動して調べてみた。初期の輝度はそれぞれ 820 cd/m^2 と1000 cd/m^2 である。比較のために、CuPcバッファ層を入れたデバイス(初期輝度 183 cd/m^2)の寿命も測定した。図2に示したように、MoO3バッファ層を使うことによって、820 cd/m^2 の初期輝度では 6000時間以上、1000 cd/m^2 の初期輝度では 100...続きを読む

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某社が開発した技術ですが、これはすごい技術なんでしょうか?
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導電性ポリマー ポリピロール(PPy)の応用化技術で「ナノ分散PPy液」を開発


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 電子共役系を有する導電性ポリマー、ポリピロール(PPy)を有機溶媒中にナノ分散する技術と、その技術を使った「ナノ分散PPy液」を開発しました。今後は、その技術を有機EL(*1)へと応用し、有機ELディスプレーの課題である長寿命化・大型化とコスト低減を目指した技術展開を行う予定です。

 有機ELは、自発光することから、視野角の広さ、画像の美しさが際立っており、次世代のフラットパネルディスプレーとして大きな注目を集めていますが、現状の技術では大型化ができない、寿命が短い、コストが高いなどといった課題が残されています。

 当社が今回開発した「ナノ分散PPy液」の有機ELへの応用化技術は、文部科学省のハイテク事業による私学助成を得て、東京工芸大学工学部・メディア画像学科・内田孝幸助教授の研究室と当社との共同研究によって開発したものです。「ナノ分散PPy液」を有機EL素子の正孔注入層(*2)へ組み込むことによって、上記のような従来の有機ELがもつ課題の解決が期待されます。


今回当社が新たに開発した「ナノ分散PPy液」には、寿命やコストに関して、以下のような特長があります。

現状使われている強酸性の水溶液ではないため、コーティング設備に対する腐食の問題がなく、有機EL素子の寿命に大きく影響する吸湿性の問題などが生じない。
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 また、上記に加え、従来の技術に比べてコストを約10分の1へ低減することが可能と考えられます。




〈有機EL素子の構造〉
 今後は、東京工芸大学内田助教授の研究室で開発中の有機EL材料を用いた透明フレキシブル両面発光デバイスへの応用展開を進める予定で、他企業との共同開発を進める準備も行っています。

 なお、「ナノ分散PPy液」を用いた有機EL素子の発光特性、寿命などの研究結果については、来る8月29日(火)から滋賀県草津市の立命館大学びわこ・くさつキャンパスで開催される「第67回応用物理学会 学術講演会」で発表することになっています。




(*1)
有機EL・・・有機Electroluminescence(エレクトロルミネッセンス)の略で、ガラスやプラスチックなどの上に有機物を塗布し、そこに電流を流すと、有機物が発光する現象である。これを用いることで自発光型ディスプレーができる。

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Aベストアンサー

有機ELを用いた製品としてはテレビなどのディスプレイがあります。
従来の液晶やプラズマに対し、以下のような特徴があります。

メリット
薄型、フレキシブル、低電圧・低消費電力、応答速度が速い、視野角が広い
デメリット
寿命が短い、生産コストがかかる

特にフレキシブルということで今までに無い、折り曲げられるディスプレイを作ることができるようです。
詳しいことはリンク先をご覧ください。

http://ja.wikipedia.org/wiki/%E6%9C%89%E6%A9%9F%E3%82%A8%E3%83%AC%E3%82%AF%E3%83%88%E3%83%AD%E3%83%AB%E3%83%9F%E3%83%8D%E3%83%83%E3%82%BB%E3%83%B3%E3%82%B9
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http://www.oitda.or.jp/main/hw/hw01302-j.html

ナノ分散PPy液については知らないのですが、質問を読ませていただいた限りでは上記のデメリットを改善してくれるもののようです。

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有機ELについての質問なのですが、

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 既に回答があるように、ELに関しては無機材料(半導体)を利用した物の方が昔から実用化されています。
 ところが、材料として無機物ではなく有機物でELを作れないのかな?と考えた人がいたわけです。

有機材料を使う大きなメリットして、
・軽くて自在に曲がる(要はプラスチックみたいなものですから)ので運送コストも安いし、加工も楽です。
・無機半導体はクリーンルームなど大きな工場が必須ですが、有機半導体なら極端な話、小学校時代から理科の実験で使ってるようなフラスコと試験管で簡単に合成できるので開発や生産コストを下げられる。
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ANo.1です。
>もしよろしければ具体的に数字を用いて教えていただくことはできないでしょうか?

私がやった方法は以下のとおりです。
(1) 最初に toolig factor = 1 (100%) として、膜厚コントローラの膜厚設定を、例えば100nmとして、成膜する。
(2) その結果、実測した膜厚が150nmだったら、次に toolig factor = 1.5 (150%)として、また成膜する。
(3) その結果、実測した膜厚が110nmだったら、次に toolig factor = 1.1 (110%)として、また成膜する。このようなことを、設定膜厚と実測膜厚が、希望する膜厚精度の範囲内になるまで繰り返す。

たいていの場合、(2)をやった後、(3)の段階で希望する膜厚精度(例えば設定膜厚の±5%未満)に収まります。

上に書いたようなことは、普通、代表的な膜厚でやるだけですが、膜厚範囲が広い場合は(例えば10nm~1μmといった場合)、設定膜厚をこの範囲で変えて、その膜厚ごとにtooling factorを求めるということをやればもっと正確になります。例えば、10nmの場合はtooling factorが145%、100nmの場合は150%、1μmの場合は155%というようなデータを取っておけば、50nm成膜したいとき、tooling factorをいくつにすればいいか計算できるというわけです。

ANo.1です。
>もしよろしければ具体的に数字を用いて教えていただくことはできないでしょうか?

私がやった方法は以下のとおりです。
(1) 最初に toolig factor = 1 (100%) として、膜厚コントローラの膜厚設定を、例えば100nmとして、成膜する。
(2) その結果、実測した膜厚が150nmだったら、次に toolig factor = 1.5 (150%)として、また成膜する。
(3) その結果、実測した膜厚が110nmだったら、次に toolig factor = 1.1 (110%)として、また成膜する。このようなことを、設定膜厚と実測膜厚が、希望す...続きを読む


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