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シリコンの洗浄方法といえばRCA洗浄が有名ですが、
この方法では有機物などゴミ類は除去出来ると思うのですが、
ラフネスはどうなのでしょうか?
出来るだけ平坦なシリコン基板を用意したい場合どういった洗浄方法を行えば良いのでしょうか?

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A 回答 (1件)

私はシリコンが専門ではありませんが、同僚はフッ硝酸やSH(硫酸+過酸化水素)、王水(塩酸+硝酸)などで洗浄していたと思います。



こうした洗浄方法は、基板自体は溶かさない、もしくは、基板の極表面を薄く酸化させて、その酸化膜ごと表面の異物を取る、という考えに基づいています。
そして、表面を酸処理すると、一般にラフネスは悪くなります。
基板の特定の部分に穴を開けて、特定の結晶面を出す異方性エッチングもありますが、基板の表面全体を平坦にするのは難しいのではないでしょうか。
出来るだけ平坦なシリコン基板を用意したい場合は、表面をメカノケミカル研磨するしかないと思います。
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端的には「高pH化により、SiO2溶解反応が緩和される」ということだと思います。
http://www.stella-chemifa.co.jp/product/bhfsa.html


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付加が起こり、次に脱水、そしてSi-F結合の形成、という順序で反応が進むものと
思われます。
従って、pHが低い(=プロトン濃度が高い)ほど溶解反応は活発になり、逆にpHが高いと
溶解反応は穏やかになる、と考えられます。


  O
  |
-Si-OH + H^+
  |

   ↑↓  ←平衡反応 : H^+が多い(=pHが低い)ほど、反応が下に進みやすくなる

  O
  |  +
-Si-OH2
  |

   ↑↓

  O
  |
-Si^+
  |

   ↓ + F^-

  O
  |
-Si^-F
  |

  ↓

以下、同様に反応が繰り返され、最終的にはヘキサフルオロ珪酸(H2SiF6)を生じる。
http://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%95%E3%83%83%E5%8C%96%E6%B0%B4%E7%B4%A0

端的には「高pH化により、SiO2溶解反応が緩和される」ということだと思います。
http://www.stella-chemifa.co.jp/product/bhfsa.html


二酸化珪素がフッ化水素酸によって溶解される場合、まず酸素原子へのプロトン
付加が起こり、次に脱水、そしてSi-F結合の形成、という順序で反応が進むものと
思われます。
従って、pHが低い(=プロトン濃度が高い)ほど溶解反応は活発になり、逆にpHが高いと
溶解反応は穏やかになる、と考えられます。


  O
  |
-Si-OH + H^+
  |

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シリコン:家田、高橋、成田、柳原編「電気電子材料ハンドブック」、朝倉書店、1987
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わたしもWEBで調べただけなので、「自信無し」ですが、「ソースとドレイン間の溝」と書いてあります。
RECESS:休憩、奥まったところ、くぼみ

もう一つの参考URLもどうぞ。
http://www.toshiba.co.jp/tech/review/1996/07/f02/ff02z1_j.htm

これはおまけですが、綴りが書いてありました。
http://www2s.biglobe.ne.jp/~m_nori/

参考URL:http://www.nec.co.jp/japanese/today/newsrel/9505/1102.html

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Si単結晶のX線回折測定といっても色々な種類があります。
行いたい測定によって、必要とされる装置も異なってきます、メールからは読み取りにくいので一般論で書いてみます。

1、単純に今お手持ちのウエハの面方位を知りたいのでしたら、通常のXRDでも測定可能です。
管球がCuでしたら2θを、(100)でしたら69.2°(110)なら47.3°(111)なら28.5°に固定し、DSは出来るだけ細くして、RSとSSはOPENにして、θ単独スキャン測定を行います。
測定角度は上記2θ角の半分±5°位で良いと思います(例えば(100)なら29.6°~39.6°等)
設定した2θ角とサンプルの面方位が合っていればピークが得られますし、合ってなければピークは何も出ません。
ただしSiウエハには4°OFFという種類のウエハがあり、このタイプの場合サンプルを90°づつ回して測定しないと、ピークが得られない事があります。

2、例えば(100)サンプルを使用して、(110)や(111)の反射を測定したいということになりますと、サンプルをあおり方向や回転方向に動かさないと、ピークが得られませんので(軸たてと言います)、前後あおり回転方向に移動制御可能な試料ステージが必要になります。

3、(100)サンプルの(110)や(111)反射が、理論的にどの方向に出るかが判ればよろしいのでしたら、ステレオ投影図と言うものがあります、印刷されたものの他にフリーソフトなどもあるようです。

4、ウエハの結晶性やエピ層の評価をしたいとなりますと、通常のXRDでは無理で、薄膜測定専用の装置が必要になってしまいます。

5、Si半導体メーカーは、通常のXRDのような汎用機では無く、ラインのそれぞれの工程ごとに、専用のX線装置を何種類も持っていて、方位や角度ズレを測定をして管理しています。

Si単結晶のX線回折測定といっても色々な種類があります。
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Qシリコンシーランドが手についた場合の対処方法

今日の昼頃に接着剤のシリコンシーラントを使い、手についたシリコーンを落とそうと手を洗いましたが、石鹸はもちろんのこと、台所用洗剤を使って何度洗ってもベトベトした感触が無くなりません(洗いすぎて手が若干荒れ気味)。工業用石鹸か何かで洗わないと即効では落ちないのでしょうか?その後、本を読んでいましたが、本にベトベトがつきそうで気持ち悪くなってやめました。本にベトベトしたものがついたかどうかも、今の自分の手のベトベトした感触が邪魔して分からない状態です。今自分の家にある清掃用品は、かんたんマイペット(成分:界面活性剤、泡調整剤)、ファブリーズ、台所用洗剤、石鹸などがあります。手のベトベトはおそらくそのうちなくなると思いますが、もし、本にそのベトベトがついていたら、本をめくるたびにそのベトベトした感触が手についてその度に手を入念に洗わないといけないのではと危惧しています。もし本が汚れていたら、かんたんマイペットなどをティッシュに含ませて本をふき取ろうと思っていますが、効果があるでしょうか?でなければ何かいいアイデアはありませんでしょうか?

Aベストアンサー

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 シリコーン樹脂はまったく人畜無害ですから、乾いたタオルでよくふき取っておくだけでよいです。表面から硬化(水がトリガー)しますから、残った薄いシリコーン樹脂は急速に硬化します。
 よって、それ以上何もしないほうが良い。

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