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シリコンの洗浄方法といえばRCA洗浄が有名ですが、
この方法では有機物などゴミ類は除去出来ると思うのですが、
ラフネスはどうなのでしょうか?
出来るだけ平坦なシリコン基板を用意したい場合どういった洗浄方法を行えば良いのでしょうか?

A 回答 (1件)

私はシリコンが専門ではありませんが、同僚はフッ硝酸やSH(硫酸+過酸化水素)、王水(塩酸+硝酸)などで洗浄していたと思います。



こうした洗浄方法は、基板自体は溶かさない、もしくは、基板の極表面を薄く酸化させて、その酸化膜ごと表面の異物を取る、という考えに基づいています。
そして、表面を酸処理すると、一般にラフネスは悪くなります。
基板の特定の部分に穴を開けて、特定の結晶面を出す異方性エッチングもありますが、基板の表面全体を平坦にするのは難しいのではないでしょうか。
出来るだけ平坦なシリコン基板を用意したい場合は、表面をメカノケミカル研磨するしかないと思います。
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