半導体 プロセス

半導体を勉強していますがプロセスについて質問です。

Ｐ型やＮ型半導体に部分的にアンドープの領域を作ることはできるのでしょうか？
もしできるならどのようにするか教えていただけたら嬉しいです。

No.1 ベストアンサー 回答者： rabbit_cat 回答日時： 2010/04/18 21:08

どういう構造を作りたいのかよく分かりませんが、

単純に、ドーパントをイオン注入するときにマスクして置けばいいのでは？
それとも、本当に真性半導体を得たい、ということですかね。普通、基板はｐ型が多いと思うので、完全な真性半導体は手に入りにくいですね。（ないことはないですが）
実験室で作るとして、薄い層でいいならエピで作るのが手軽だとは思います。

No.2 回答者： tadys 回答日時： 2010/04/19 13:27

intrinsicな領域を持つ半導体は「PINダイオード」として実用されています。

用途は高周波のスイッチやアッテネータなどです。

作りかたは「PINダイオード 製造法」で検索すれば良いでしょう。