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ソニーやキオクシア、マイクロンメモリジャパン、三菱、ロームなど、線幅ってどのくらいなんでしょうか?
TSMCのジャスム?が22~28nmプロセスですが、日本では一番ですか?

教えてください!

A 回答 (2件)

半導体の用途によって製造装置が違うのでリソグラフィーを一概に回答する事は不可能です(範囲は15nm(フラッシュメモリ等)~28nm(パワー半導体))。

旧設備だと45nmなどもあり。
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この回答へのお礼

メモリー、ロジック、パワー、アナログなどの半導体の用途によって、使う装置が違うし、特にリソグラフィー(露光)
装置が違ってくるんですね。
まずはその認識を持つようにします。

お礼日時:2023/03/12 12:34

恐らくですが、14nmプロセスだと思います。

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この回答へのお礼

有難う御座います。
そうなんですね。
JASMが一番と思ってました。
ソニーは何ナノ、キオクシアは何ナノ、マイクロンその他の線幅一覧、もしくは最新の線幅が記載された記事があれば、
みなさん教えてください。。

お礼日時:2023/03/12 12:24

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