リフトオフプロセス

リソグラフィ関連の話で、リフトオフプロセスという言葉がでてきました。
レジストに関する言葉のようですが、正確な意味がわからないので教えていただきたいです。
よろしくお願いします。

No.1 ベストアンサー 回答者： alien55 回答日時： 2002/01/17 03:16

リソグラフィー（あるいはフォトリソグラフィー）とは半導体集積回路などの製造工程において、ウェハ（基板）表面に2次元パター

ンを形成する方法ですが、リフトオフ・プロセスとはフォトリソグラフィー工程の一種です。
通常、フォトリソグラフィーと言うと、次の工程を指し示します。

（1）基板上にレジストを塗布する（普通、適度にベイクさせた後、基板を高速回転しながらレジスト液を滴下し、均一に基板表面に
　塗布します。また塗布後、レジストと基板との密着性を高めるために加熱処理します）。
（2）マスクやレティクルを利用して露光する（パターンが印刷されているマスクを基板に近接させて、光を当てる。レジストは光が
　照射された部分のみ化学的に変質します）。
（3）現像および加熱処理（現像液によって変質したレジストを溶かします。所望のパターンに沿ってレジストを溶かしたことになり
　ます。その後加熱処理を行います）。
（4）エッチングなどを行う（ここで例えばエッチャントなどに浸けると、レジストの無い部分の基板のみがエッチングされ、基板上
　にパターンに沿った段差を形成することができます）。
（5）剥離する（最後にレジストを剥離液などで除去します）。

さて、リフトオフとは、上記の（4）の後に、金属蒸着を行う場合などに利用されます。上記（4）の後、次のようにします。
（5'）蒸着する（（4）でエッチングをしたとき、エッチャントが段差の側面をも溶かし（サイドエッチと言う）、レジストによって
　ヒサシができます。このヒサシが重要です。このヒサシのお陰で、レジスト上に蒸着された金属膜とエッチングされた部分に成膜
　された金属膜とを断絶できます。またこのとき、金属を蒸着するとき、レジストを一種のマスクに使っていることになります）。
（6'）剥離する（最後にレジストを剥離液などで除去。そのとき、レジスト上の金属膜も一緒に取り除かれます）。
このようにすると、蒸着された金属はちょうど(4)でエッチングされた部分に入り込む形で残ります。パターンに沿った金属膜が形成
できるわけです。
「リフトオフ」という言葉は、多分、最後の(6')の過程で、レジスト上に余分に成膜された金属膜を、レジストが持ち上げて（lift）
取り除く(off)、ということから出来た言葉です。文章では分かりにくいと思うので、上記の工程を絵にしてみます。

(1)
■■■■■■■■■■レジスト
□□□□□□□□□□基板
□□□□□□□□□□

(2)
↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓光
▲▲▲▲▲↓↓▲▲▲マスク
■■■■■■■■■■レジスト
□□□□□□□□□□基板
□□□□□□□□□□

(3)現像　
■■■■■　　■■■レジスト
□□□□□□□□□□基板
□□□□□□□□□□

(4)エッチング
　エ ッ チ ャ ン ト　
■■■■■　　■■■レジスト
□□□□＿＿＿＿□□基板
□□□□□□□□□□

(5)蒸着
◎◎◎◎◎　　◎◎◎金属膜
■■■■■　　■■■レジスト
□□□□＿◎◎＿□□基板
□□□□□□□□□□

(6)レジスト除去（これがリフトオフ）

□□□□＿◎◎＿□□
□□□□□□□□□□出来上がり

こんな絵で上手く伝わるか心配ですが、もし何かわからないことがありましたら、補足をお願いします。

この回答へのお礼

何となくイメージはしていたので、ちゃんと理解できました。
絵がわかりやすかったです。
助かりました、ありがとうございます。

お礼日時：2002/01/17 04:06