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 MOSトランジスタのゲート絶縁膜にSiO2が使われるのが一般的にですがゲート絶縁膜の誘電率ε、そして電気容量CとMOSトランジスタのスイッチングの動作周波数にはどのような関係があるのでしょうか?

 明後日の発表でこの内容を使いたいので、早急な回答をよろしくお願いします。

A 回答 (1件)

もう必要なくなっているかもしれませんけど、、、、



ゲートの静電容量Cは誘電率εが大きくなればなるほど大きくなります。
C=S*ε/d
S:ゲート面積、d:絶縁体の厚み

Cが大きいということは、単純にRC回路でのCにかかる電圧を考えれば、Cへの電圧はCが大きいほどなかなか上昇しなくなります。時定数はC*Rですから。

つまりそれだけ応答が遅くなるということ。
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