SiO2エッチングの温度制御

　現在SiO2のエッチングを試みているのですが、温度制御の方法がわからなくて困っています。出来る限り室温(25℃)でのエッチングを考えています。ホットプレートですと室温でのエッチングは可能なようですが値が張るので厳しいかと・・。
　なので安価なホットプレート(室温でも使用可)があれば教えてください。またはそれ以外に他の温度制御方法がありましたら教えてください。
お願いします。

No.1 回答者： Massy57 回答日時： 2010/02/18 17:12

たしかに常温付近でプロセスの温度を正確にコントロールする（安価に）のはかなりむつかしそうですね。

通常は、相当お金をかけたコントロールシステム（ペルチェで冷やしながらヒータで昇温するといったかんじかな）を必要とするはずです。
簡単安価という条件で自分ならどうするか考えた結果（実現性はご自身でご検討ください）。
研究室のなかにある、薬物保管用の電気冷蔵庫のなかに温度コントロール可能なホットプレートをおくというあんです。　電気冷蔵庫のドアを開けないようすれば案外よい精度で温度コントロールができるのでは。
もちろん、ホットプレートの電気容量とうは、トライアンドエラーする必要はありそうですが。
もっと簡単な方法は、冬限定版です。屋外で夜間ホットプレートをもちいて実験するです。　う～んこれなら費用は要らんな。排気が問題か、どこかのダクトからパイプでもひっぱてくるか。
実験室の窓を開けて夜実験という案もありそうですね。