フォトリソグラフィと超純水。

フォトリソグラフィの作業工程で、ウエハの洗浄などに超純水を使う具体的な理由がわかりません。

図書館で関連書などを調べたりネットで検索したりと色々してきたのですが、どれも作業工程や手法などは載っていますが、超純水を使わなければならない理由などについては触れられておらず、独学では限界だと考え質問させていただきました。

通常の水ではどんな現象が起きるために、素子の機能阻害が起きるのか、教えて頂けたらと思います。

No.1 回答者： t-ripper 回答日時： 2005/05/22 22:05

被洗浄物に不純物が混入するのを防ぐためです．

市水や蒸留水には多くの気体やイオンが入っているので．
Siウエハ上にデバイスを作成する場合，不純物濃度はシビヤにコントロールする必要が有ります．

この回答へのお礼

早急な回答ありがとうございます！
もし宜しければ、もう少し具体的なことが知りたいのですが、宜しいでしょうか？

たとえば、不純物が混入することで、どんな化学的(？)反応などが起きるために、こんな機能の劣化が生じる　みたいなことを教えて頂きたいのです。

質問内容が不十分だったため、お手数をおかけしてしまいますが、参考URLや参考キーワード程度でもいいので、もし宜しければお願いいたします；

お礼日時：2005/05/23 01:11

No.2 ベストアンサー 回答者： paddler 回答日時： 2005/05/23 19:25

具体的な影響をやさしく書くと、

（１）反応性に富むもの・・Naイオンなどアルカリ金属イオン、Clイオンなどハロゲン族イオン等の反応性については言わずもがな、でしょう。
（２）重金属イオン・・Si結晶中にとけ込んで広がり（マイグレーション）、電子の流れに悪い影響を起こす。
（３）洗浄→乾燥後、固形分が析出（ウォーターマーク）して、その上に形成される配線パターンなどが正しく形成されるのを阻害する。

などがあるのだと思います。

この回答へのお礼

詳細な回答、どうもありがとう御座います！
大変参考になりました。
本当にありがとうございました。

お礼日時：2005/05/23 19:52