No.2ベストアンサー
- 回答日時:
コンタクトの問題は、ドーピング状態などもからんできますから、やはり論文を
あたられたほうがいいかもしれません。
主要な論文の検索サイトを下にまとめておきます。
1) Physical Review, Applied Physics Letters, JJAP等の物理系論文検索
http://scitation.aip.org/
上記検索でSPINも含まれるように、BOTHを指定して検索すれば、
Nature等も含まれるようになる。
ただし、SPINは検索にもIDが必要。
2) Journal of Crystal Growth, Thin solid Films等の
Elsevier出版の論文検索
http://www.sciencedirect.com/
3) Electron Device Letters等のIEEE論文検索
http://ieeexplore.ieee.org/Xplore/dynhome.jsp
4) 電子情報通信学会誌(和文)
http://search.ieice.org/
5) 電気学会誌含む日本の論文誌検索(和文あり)
http://www.jstage.jst.go.jp/browse/-char/ja
6) Japanese Journal of Applied Physics検索
http://www.ipap.jp/jjap/online/index.htm
※たしかScitation&SPINではJJAPの検索はできても
本文はダウンロードできない。こちらのサイトからなら
ダウンロードも可能
※SPINを除く多くのサイトは、検索、アブストラクトの
閲覧までは無料でできます。また、大学によっては各
サイトと包括契約を結んでいるので、学内からアクセス
すると本文をpdfでダウンロードできる場合があります。
(私は、もう長らく冊子体の論文誌をコピーしていません)
※日本応用物理学会の英文論文誌であるJJAPを個人購読
すると、SPINのアクセス権が得られます。
http://www.jsap.or.jp/join/spin.html
更なるご丁寧なご回答に重ねて感謝いたします。
半導体-金属接触において、基本となるエネルギー帯図は、半導体の電子親和力とフェルミ準位および金属の仕事関数が分かれば描画できますが、いろいろと調べていくうちに界面準位、ピニングなどによって理想どおりにはいかないということが分かってきました。
今回、ご紹介いただいたサイトでアブストラクトが検索でき、有意義な論文をいくつか見つけることができました。当方は応用物理学会の会員ではありませんので、SPINのアクセス権は得られませんが、近隣の大学図書館で冊子を参照してみます。
今回は本当にありがとうございました。
No.1
- 回答日時:
古川静二郎 雨宮好仁 編著「シリコン系へテロデバイス」丸善出版 平成3年の
p.12に電子親和力として以下の値が記載されていました。
Beta-SiC 3.47eV
GaAs 4.07eV
GaNは値が記載されていません。
また、この書籍では、電子親和力は測定法により値が異なり、
0.1eV程度の不正確さが伴うと記載されています。
この本は現在では入手しにくいと思い、他の半導体物理の本も
見たのですが、残念ながら記述はみありませんでした。
化合物半導体やヘテロ系に特化した書籍をあたればもう少し
見つかるかも知れません。後はScitationあたりで論文を検索
してみてください。
参考URL:http://scitation.aip.org/
ご丁寧な回答ありがとうございました。「シリコン系へテロデバイス」は近くの図書館や大学に所蔵がないため、他の図書館から取り寄せ依頼をしました。借りられたら内容を確認してみます。ヘテロ系の書籍という発想はなかったので、今後あたってみたいと思います。Scitationというサイトも知りませんでした。英語は苦手ですが、がんばって探してみたいと思います。このたびは、本当にありがとうございました。
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