都道府県穴埋めゲーム

有機ELの論文を読んでいるんですが、わからないところがあり困っています。全体としては、ITOとホール輸送層の間にMoO3
をいれると、発光効率などが上がるという話です。

わかる範囲でいいので、どうか手助けお願いします。

・Assuming the scalable law of Coulombic degradation for driving at 100cd/m2 , the half-life is projected to be over 50000h.
「クーロン劣化のスケール則に従うと仮定すれば、輝度が 100 cd/m^2 のときの輝度半減期は 5万時間以上になると予想される。」と訳してみたのですが、クーロン劣化のスケール則とは何なのでしょうか?それとも訳を間違えているのでしょうか?

・It is generally easier to induce the crystallization of hole transport layer by the introduction of an improper buffer layer due to Joule heat during device operation.
「EL素子作動中のジュール熱のため、簡単にホール輸送層の結晶化を引き起こしてしまう」というような意味だと思うのですが、なぜジュール熱によって結晶化が起こるのかよくわかりません。

・We found that the introduction of the MoO3 buffer layer improved the interface stability and avoid the crystallization of hole transporting layer NPB.
この文章のように、interface stability (界面の安定性?) というのがよくでてくるのですが、これはどういう意味なのでしょうか?

A 回答 (1件)

この前も言ったでしょ、


MoO3が準安相にあると機能するが温度が上がると活性化エネルギーを貰って相転移が起き、より安定な結晶相になると機能は失われる。

scalableは「線形関係にあると考えて良い」という意味で、早い話「比例する」ということ。

最初に記したように界面のMoO3が準安定相を保つことができるかどうかが「安定性」の中身。
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この回答へのお礼

参考になりました!ありがとうございます!

お礼日時:2010/10/17 22:19

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