SOG薄膜について

現在、研究でSOGをシリコン基板の上にスピンコートして薄膜とし、イオンビームを照射する卒業研究を行っています。
参考にしているのが東京理科大学谷口淳先生
(http://www.secap.org/smalltech/data/TOKYO_UNIV%2 …の条件で行っています。
しかしながら全く同じようにしているにも関わらず
イオンを照射してもパターンが全く残りません。
というか、薄膜を作製しただけのものを現像液につけるとすべて除去され、照射の意味が無いことが判明しました。
そこで、SOG薄膜は熱処理するとケイ酸ガラスになってしまいイオンを照射しても変わらないと知り、熱処理温度を色々と下げてみましたが結果は変わりませんでした。
只今行き詰まり中です。
(1)果たして、熱処理温度の問題なのか？
(2)谷口先生にはSOG溶液の種類がありませんでしたので
こちらで東京応化のSi-05Sにしましたがこれが原因？
(3)中々参考文献や資料がありません。
知ってる資料があるならお教えください。
(4)その他なにかありましたら

どうぞ宜しくお願いいたします

No.1 ベストアンサー 回答者： nzw 回答日時： 2006/07/18 14:30

まず、実験の目的を再確認してください。

参考にされている谷口先生の資料のp.32～44の実験の
ように、SOGを利用した三次元構造を作成されたいので
すね？　あなたの場合、この研究のEBを、イオン照射
に変更したものを試みられているということでよろしい
でしょうか？以下、その前提で話をします。

1）
この研究では、照射された部分と、されていない部分で
選択エッチできることが必要になります。したがって、
照射されていない状況で、エッチ処理後に十分な膜厚
が残るような条件を見つけることが、まず最初にすべき
ことのはずです。その後に、その条件内において、照射
部分との選択性が十分得られる条件をみつけるという
手順をおこなうべきでしょう。上記、条件として、あなた
が何を制御できるのか、熱処理温度だけか、それ以外に
制御可能、もしくは検討すべきものはないか、色々と
考えてみてください。その際、闇雲に条件を振るのでは
なく、どうすれば選択性がでるのか、選択性を生む原理
まで考察しながら行うことをお勧めします。
特に、電子線をイオン線に変更されているわけですから、
その変更に伴う差は当然考慮しなければなりません。

2）ご紹介の資料は、口頭発表用の資料なので、こういった
資料には実験を再現するに必要な情報をすべて載せきれ
ないのが普通です。特に、この資料はセミナー用ですので
おそらくレビュー的なものなのでしょう。ただ、SOGの
種類が記載されていないというのは本当でしょうか？
この資料からだけでも、何をつかわれたのか推測できま
せんか？

3）論文は検索されましたか？
ちょっと簡単に検索してみましたが、参考になりそうな
論文がすでに公開されています。
論文の検索サイトについては、下の私の別の回答を参考
にしてください。検索方法を考えるのも、研究のうちで
すから、色々工夫してみてください。

参考URL：http://oshiete1.goo.ne.jp/kotaeru.php3?q=2031072