水酸化カリウム（ＫＯＨ）とシリコン（Ｓｉ）の反応について

はじめまして。
半導体の関係で仕事をしているのですが、ＭＥＭＳ（マイクロマシン）などでＫＯＨやＴＭＡＨをシリコンエッチングに使用していると思いますが、その時に気泡が出ると聞いたのですが、本当なのでしょうか？理由なども含めて教えて頂きたいですが、解る範囲だけでも結構ですので、よろしくお願いします。

No.1 ベストアンサー 回答者： doctormimizuku 回答日時： 2004/01/07 13:08

モノシランガス<ＳｉＨ４>が発生するのではないですか？

この回答へのお礼

ありがとうございます。
勉強いたします。

ちなみに、話は変わりますが、ＫＯＨやＴＭＡＨのエッチングレートなどご存知でしたら、また教えて頂けますでしょうか？

お礼日時：2004/01/07 13:22

No.2 回答者： doctormimizuku 回答日時： 2004/01/08 12:33

専門家ではないので、よくはわからないのですが、以前ナノピラミッドの作り方について調べた時のＵＲＬが残っていましたので、ご参考にされると良いと思います。

http://www.fuji-ric.co.jp/st/odette/