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HF/HCｌのクリーニング

締切済

質問者：gonta1138
質問日時：2014/04/03 14:35
回答数：1件

半導体等の洗浄技術である，薬液HF/HCｌを用いたクリーニングのメカニズムを教えてください。

この質問への回答は締め切られました。

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回答 (1件)

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No.1

回答者： rabbit_cat
回答日時：2014/04/11 00:50

「RCA洗浄」で検索されるといくつかの資料が出てくると思います。

基本的には、HFは酸化膜（SiO2）の除去、HClは金属不純物の除去、に使います。

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