ラジカル付加反応

の検索結果 (72件 1〜 20 件を表示)

ラジカル付加反応における重合度

…ラジカル重合において平均分子量(重合度)は反応率に依らないですよね これはなぜですか?…

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アリル位の臭素化について

…アリル位の臭素化について教えてください。 というのも、NBSを用いたときはアリル位が選択的に臭素化されるのにたいして、臭化水素と過酸化物を用いたラジカル反応では二重結合が開裂...…

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ラジカル

…CH2=CH-CH(CH3)-CH2-CH3とHBrの過酸存在下の反応ってどうなりますか?…

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1ーヘキセンについて

…化学の問題です。 分かる方がいましたら教えて頂けると嬉しいです。 (1)1ーヘキセンの燃焼の化学反応式。 (2)1ーヘキセンと臭素(水)の反応名と反応した時の化学反応式。 よろしくお願い...…

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スチレンからの合成

…スチレンC6H5CHCH2からC6H5CH2CH2Iを合成する問題で、解答ではC6H5CH2CH2Brを合成したあとアセトン・水の存在下でNaIを反応させることでC6H5CH2CH2Iを合成しています。 C6H5CHCH2に過酸化物の存在下中でH...…

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マルコフニコフ則?

…H3C-CH=CH-PhにHBrを付加させるとどうなるんでしょうか? マルコフニコフ則に関係なくBrが左につくものと右につくものの2通りの化合物ができると思うのですが。 (ベンゼンの扱いがわかりませ...…

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アセチレンとエチレンの反応

…二塩化エタンについて調べている時に見たのですが、 http://detail.chiebukuro.yahoo.co.jp/qa/question_detail/q1414892654 http://member.tokoha-u.ac.jp/~unv41414t/sotuken1.htm 上の2つのページにアセチレンと塩素で二塩...…

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シクロヘキサンのラジカル連鎖反応について

…炭化水素に関する実験のレポートで質問があります。 シクロヘキサン2mLに臭素四塩化炭素溶液2mLを加え、これを日光に当てたとき、臭素四塩化炭素溶液の色が薄くなり、気体発生を伴いま...…

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アリル基の末端にOHを入れる方法

…アリル基の末端にOHを付加反応で入れる方法を教えてください。 よろしくお願いします。…

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アリル位のラジカル反応

…CH2=CHCH2Br+HBr+BPO→ の反応過程についてですが、どうしてこの反応はアリル位の水素引き抜きが起こらないのでしょうか? Wohl-Zieglerアリル位臭素化では、アリル位が反応するのに・・・ http://www...…

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高分子の分子量分布について

…高分子の重合法の違いによる一般的な分子量分布を比較してみようと考えているのですが、例えば、鈴木・宮浦カップリングだと一般的にどの程度の分子量分布になるのかなどが知りたいの...…

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Markovnikov則

…Markovnikov則(マルコフニコフ則)と逆Markovnikov則の2つの意味の違いはわかるのですが、反応中でのMarkovnikov則と逆Markovnikov則の使い分け方法がわかりません。 また、使い分け方法は暗記するしか...…

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高級水性ポリマーの合成について

…ポリアクリル酸ナトリウムを合成するのに、アクリル酸ナトリウムに架橋剤として、N,N'-メチレンビスアクリルアミドを加え、その後、ペルオキソ二硫酸ナトリウム(酸化剤)と、N,N,N',N...…

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高分子化学のラジカル重合の開始剤について

…代表的なラジカル開始剤に過酸化ベンゾイル(BPO)とアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)がありますが、前者は溶媒からH・を引き抜きやすく、後者はH・を引き抜かないと習ったのですが、なぜそ...…

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チオ酢酸の二重結合への導入の反応機構に関して

…AIBNの様なラジカル開始剤、チオ酢酸、末端アルケン化合物を用いて反応を行った場合の反応機構に関してですが、 1)AIBNラジカルがチオ酢酸のSHからHを引き抜き、チオ酢酸ラジカルを生成 2)...…

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ラジカル反応について

…ラジカル反応について ラジカル反応について質問させてください. ある演習問題で次のような問が出題されていました. 1-ペンテンとクロロホルムが過酸化物(微量)の存在で反応したときの ...…

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芳香環を臭素化するときの試薬の違い

…Br2にFeBr3、Fe、または、Br2単体で用いたりと、問題集に書かれていますが、これらの違いは何なのでしょうか?FeBr3はルイス酸として働くのはわかります。 Feもルイス酸のでしょうか? Br2単体で...…

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反応条件下の異なる1-buteneと臭化水素との反応

…院試の内容で, 1-buteneと臭化水素との反応において遮光条件下と光照射条件下における主生成物が異なる。 このときのそれぞれの反応機構を示せ。 と書かれているのですが,なぜ条件変更に...…

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高分子の耐候性について

…第三級C-H結合や二重結合の隣(アリル位)のC-H結合は、結合切断によってその生成したラジカルが安定であるために切れやすい。 そのため、そのような化学構造を有する高分子は耐候性が悪く...…

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ベンゼン、シクロヘキサンと塩素の反応

…ベンゼンのときは付加反応、シクロヘキサンのときは置換反応として、 それぞれ紫外線照射下で塩素と反応すると習ったのですが、 どちらもヘキサクロロシクロヘキサンが生成するのでし...…

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