CVDについて教えて下さい。

CVDってなんですか？またそれが何に用いられているのかなど教えてください。

No.1 回答者： naokun 回答日時： 2001/02/07 07:57

CVO:Cerebro-vascular Disease （脳血管障害）のことでしょうか？

脳の血管が、詰まったり、切れたりして起こる、脳梗塞、脳出血、クモ膜下出血の様な病気のことでは？
（医学のことであれば、専門家）
（全く別の分野の質問なら、ごめんなさい）

No.2 回答者： takesama 回答日時： 2001/02/07 08:48

Chemical Vapor Deposition（化学気相析出）のことでしょうか。

”薄膜や粒子にしたい材料の構成元素を含む化合物の１種類以上の原料ガスを反応部に供給し、気相または基板表面での化学反応により微粒子や薄膜を作製する方法である。”とありますが、クリーンルームの工場などで見かけますね。
違う分野のことだったらごめんなさい。

No.3 回答者： naokun 回答日時： 2001/02/07 08:54

すみません。

私も全く質問をとり違えていたようです。
takesamaさんのおっしゃるように、Chemical Vapor Depositionのことのようですね。「何に用いられているのか」と言うご質問に気づかず、失礼いたしました。下記に、URLをひとつのせておきます。
すみませんでした。

参考URL：http://www.ultramet.com/4.htm

No.4 回答者： nanashisan 回答日時： 2001/02/07 12:27

分野の分かるカテゴリーに質問するか、どうゆう脈絡で出てきた言葉か説明するべきでしょう。

また回答者がそんなに下手に出る必要もないと思いますが。

No.5 回答者： MiJun 回答日時： 2001/02/07 19:32

以下の参考ＵＲＬサイトは参考になりますでしょうか？

「フラーレン生成過程の分子動力学」
◎http://www.drmi.co.jp/kankou/dirass/dirass_tech/ …
（フロンティアカ－ボンの現状と新展開）

さらに成書としては、
----------------------
ＰＶＤ・ＣＶＤ皮膜の基礎と応用／表面技術協会／槙書店／１９９４．９　
ＣＶＤハンドブック／化学工学会／朝倉書店／１９９１．６　
プラズマＣＶＤ及びプラズマ溶射によるバリアー型耐食…／門哲男／通商産業省工業技術院…／１９９０．１０
--------------------
補足お願いします。

参考URL：http://www.photon.t.u-tokyo.ac.jp/~maruyama/full …

No.6 回答者： tomtomtomtom 回答日時： 2001/02/08 05:42

下にも書かれていますが、恐らく化学気相析出のことですよね。

簡単に言うと、気相法を利用した表面改質技術のひとつだといえますが、その
利用範囲は広いです。
僕の知る限り、窒化炭素や、窒化チタン、窒化アルミ、酸化ハフニウム・・等々です。
いずれも薄膜ということが特徴で、表面を薄膜で覆うことで、
母材にはない特性を寄与させることができます。
具体的には、ドリルなどの切削工具の刃先部分や、ギアの接触部分などが
よく聞きます。
一方で、ナノテクノロジーの分野と合わさって、最先端の半導体技術や医療の分野でも、重要なものとなっています。

窒化物や酸化物などは、通常では、金属表面に付着させることはできませんが、高度な真空技術の発展によって、上に書いたようなものが実現できるようになりました。

No.7 回答者： kentschan 回答日時： 2001/02/08 09:59

CVDが化学気相析出のことだと仮定して，その用途について補足します。

既に下の方がお答えのように半導体集積回路で広く使われており，非常に重要な技術です。
また，CVDの用途としては最も大きい市場だと思います。

半導体上に回路を作製する製造プロセスで，配線の間の絶縁膜や，
表面を保護する薄膜の作製に広く使われています。
この用途としては酸化シリコンや窒化シリコンが一般的で，例えば酸化シリコンの場合だと
SiH4とO2のガスを基板上に送り込み，加熱やプラズマによって反応させて，薄膜を堆積させます。

No.8 回答者： kent-milds 回答日時： 2001/05/06 00:17

えっと、ＣＶＤがChemical Vapor Depositionだったら補足します。

ＣＶＤの半導体への応用ですが、半導体や液晶ディスプレイの製造では
薄膜形成→光感光体塗布→感光→感光部剥離→エッチング→光感光体剥離
と言う行程が多数入っています。
この薄膜形成で使われる技術です。
薄膜形成技術はＣＶＤの他にＰＶＤも使われます。
ＰＶＤとはPhysical Vapor Depositionの略です。
蒸着とか、スパッタリングなどがあります。

半導体では・・・
ＣＶＤは相間絶縁膜（SiO2など）、多結晶シリコン膜など、
ＰＶＤはアルミ、タングステンなどに使われています。