プラズマＣＶＤについて

全くの初心者な質問で申し訳ありません。
半導体製造設備にプラズマＣＶＤという装置がありますが、この設備はイオン注入に使われる事がありますでしょうか？
実はエネルギー管理士という試験で、これに関する問題が出まして、公式回答はＮＯなのですがあと１問正解が出ると合格になるかどうかな瀬戸際なもので…。
詳しい方がおられましたらご教授願います。

No.1 ベストアンサー 回答者： shintaro-2 回答日時： 2012/09/05 00:01

>半導体製造設備にプラズマＣＶＤという装置がありますが、この設備はイオン注入に使われる事がありますでしょうか？

あくまでもプラズマを立てて原料ガスを流す装置であって、
イオンの加速源がないので、インプラできません。

この回答へのお礼

やはりそうでしたか。
ありがとうございました。

お礼日時：2012/09/05 00:45