アリル位の臭素化について

アリル位の臭素化について教えてください。 というのも、NBSを用いたときはアリル位が選択的に臭素化されるのにたいして、臭化水素と過酸化物を用いたラジカル反応では二重結合が開裂して臭素化されますが、その違いが何によるものなのか分かりません。 臭素の濃度が低く保たれることが(NBS)、アリル位を選択的に臭素化させるために必要という記述は見つけましたが、臭素の濃度はイオン的付加反応よりラジカル付加を優先させるとは思いますが、なぜアリル位のみを選択的に臭素化するようになるのでしょうか？
もしかしたら簡単で私の調べが足りないだけかもしれませんがどなたかよろしくお願いします。

No.1 回答者： NiPdPt 回答日時： 2015/05/12 14:31

アリル位が反応するのは、そこに生じたラジカルが安定だからです。

安定な中間体を生じる経路の活性化エネルギーが小さくなる事は一般的に言える事です。
あなたの言う「臭化水素と過酸化物を用いたラジカル反応」というのがよくわかりません。臭化水素のラジカル付加反応の話であれば、反応の過程でHBrからの水素ラジカルの引き抜きの起こりやすさが関係してきますので、アリル位からの引き抜きとの反応の起こりやすさと比較する事になります。
また、その手の引き抜きの起こりやすさであれば、引き抜き自体の反応速度定数だけではなく、濃度項も関係してきます。