物理について質問です。お願いします。

真空蒸発法による膜厚の測定で予想膜厚が測定膜厚よりも１～２割ほど厚くなる理由についての考察なのですが・・・

真空蒸発法によりビスマスを蒸発させた際に、ビスマスの原子のならびが不規則な状態、アモルファスになったため、原子のならびが規則的にならんでいると予想した予想膜厚よりも厚くなったと考えられる。

といった感じに考えたのですが、何か少し足りない気もします・・どのように書いたら良いでしょうか？
アドバイスお願いします＞＜

（実験での蒸発金属はビスマスを使用しました。）

No.1 ベストアンサー 回答者： mystery200 回答日時： 2011/01/16 17:09

＞真空蒸発法による膜厚の測定で予想膜厚が測定膜厚よりも１～２割ほど小さくなる理由

装置には、水晶の振動子が、「参照セル」として付いていませんか。
その水晶振動子にビスマス膜が付いていき、周波数の変化で「予想厚み」を測定します。
そうでなければ、下記意見は参考になりません。

「予想厚み」と電子顕微鏡（ＳＥＭ）で測定した厚みの差は、
純粋に、膜をつける基板の材質や研磨の度合いに依存すると思います。
つまり、水晶振動子と基板の差です。