半導体のレジスト剥離プロセスでポリマーの再付着を防止したい

はじめまして。
題目の通り、半導体のプロセスで、レジスト剥離（硫酸＋過酸化水素水）でポリマーの再付着を防止するにはどうすれば良いのでしょうか？

No.1 回答者： boo000 回答日時： 2007/10/29 22:22

レジストの再付着を防ぐということですか？

どのような手法でレジスト剥離をしているのか、よくわかりかねますが・・・
ビーカー等での手作業で行っている場合は、
剥離液のビーカー数を増やして、パーティクルを希釈しながら、剥離すると良いかもしれません。