有機ELのスピンコーティング法について

ある論文を読んでいたら、「スピンコーティング法」というものが出てきました。薄膜を作る方法の一つのようなのですが、どのような方法でしょうか？
また、この方法で薄膜を作る際、用いる溶液の粘度もしくは濃度が問題となってくるようですが、それはなぜなのでしょうか？
参考HPもしくは文献等も教えていただけるとありがたいです。

No.3 ベストアンサー 回答者： TEOS 回答日時： 2009/06/29 00:16

普通はスピンコーターと言うと、シリコンウエハー＆ガラス＆金属板を

ローターの上で真空に引き密着させて、高速回転させつつ、アセトン等の溶媒で、板の表面を洗浄してから、サンプルを垂らして高速回転させて均一に広げて薄膜を作ります。　それから乾燥機で溶媒飛ばしたり、
ＵＶ照射で硬化させますけどね。
粘度が低くて、ＮＶが高い方が綺麗な膜になると思います。
高回転の方が薄い膜になりますね。
やや高粘度で、低速回転で、厚い膜圧を作る人も居ますけどね。？


他にもＣＶＤや、レザーを使う特殊な蒸着も有りますね。
参考までに。

この回答へのお礼

ご回答ありがとうございます。
かなり実践的なご説明で、とてもわかりやすく参考になりました。
ちなみに、NVとは何のことでしょうか？
専門分野が違うため、よくわかりません。

お礼日時：2009/06/29 02:46

No.4 回答者： TEOS 回答日時： 2009/06/30 02:50

私は化学屋ですが、あなたのご専門は何でしょうね。

電気とか機械系
ですかね。　ＮＶですが一般用語だと思ってましたが、希釈濃度です。
ＮＶ５０だと、樹脂と溶剤の割合が１：１です。

この回答へのお礼

度々のご回答、またご指南どうもありがとうございます。
お恥ずかしながら、私は理学系化学の学生です。
日々、基礎知識の不足を実感しています。
粘度が薄くて、希釈濃度が高い方が綺麗な薄膜ができる、というのは確かに直観的に納得できるような気がします。
とても参考になりました。
どうもありがとうございました。

お礼日時：2009/07/01 01:59

No.2 回答者： chiezo2005 回答日時： 2009/06/28 22:54

http://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%82%B9%E3%83%94% …
に説明があります。

基板に塗布したい物質を含む溶液を滴下して、
そのあと回転させることにより膜を形成する方法です。

非常に均一性のよい膜が形成されますので、
半導体ICの製造プロセスなどでは露光用のフォトレジストなどの有機材料の塗布にはよく用いられています。

滴下した液体が遠心力で広がりつつ、溶媒が蒸発して粘度が上昇していくことで固体化して膜が形成されます。

したがって、
膜の厚さは粘度、濃度（密度）、蒸発速度、回転数、回転時間などで決まります。

この回答へのお礼

わかりやすい回答、ありがとうございます。
溶媒は、最終的にとばすのですね。膜厚に粘度が関わってくるのですね。
参考HPも教えてくださり、どうもありがとうございました。

お礼日時：2009/06/29 02:38

No.1 回答者： rnakamra 回答日時： 2009/06/28 22:00

スピンコート法は、溶液または溶融体を薄膜を作る対象物の上にディップして、対象物を高速で回転させることで遠心力で広げる製膜方法です。

真空を引く必要が無く、装置も非常に安価に作ることができます。

膜厚は、遠心力と表面張力の釣り合いで決定されるのでは無いかと思いますが確認はしていません。
粘度や表面張力などの要因が同じであれば、膜厚は濃度に比例します。
これは、溶液としてまわしているときの釣り合いの厚さが同じであることから、作られる膜の厚さが濃度に比例することによります。

この回答へのお礼

わかりやすい回答ありがとうございます。
参考になりました。
液体または溶融体を対象物の上にのせて回転させるのですね。

お礼日時：2009/06/29 02:35