有機ＥＬの論文を読んでいるんですが、わからないところがあり困っています

有機ＥＬの論文を読んでいるんですが、わからないところがあり困っています。全体としては、ITOとホール輸送層の間にMoO3
をいれると、発光効率などが上がるという話です。

わかる範囲でいいので、どうか手助けお願いします。

・Assuming the scalable law of Coulombic degradation for driving at 100cd/m2 , the half-life is projected to be over 50000h.
「クーロン劣化のスケール則に従うと仮定すれば、輝度が 100 cd/m^2 のときの輝度半減期は 5万時間以上になると予想される。」と訳してみたのですが、クーロン劣化のスケール則とは何なのでしょうか？それとも訳を間違えているのでしょうか？

・It is generally easier to induce the crystallization of hole transport layer by the introduction of an improper buffer layer due to Joule heat during device operation.
「ＥＬ素子作動中のジュール熱のため、簡単にホール輸送層の結晶化を引き起こしてしまう」というような意味だと思うのですが、なぜジュール熱によって結晶化が起こるのかよくわかりません。

・We found that the introduction of the MoO3 buffer layer improved the interface stability and avoid the crystallization of hole transporting layer NPB.
この文章のように、interface stability (界面の安定性？) というのがよくでてくるのですが、これはどういう意味なのでしょうか？

No.1 ベストアンサー 回答者： keith_j9 回答日時： 2010/10/14 17:16

＞「クーロン劣化のスケール則に従うと仮定すれば、輝度が 100 cd/m^2 のときの輝度半減期は 5万時間以上にな＞ると予想される。

」と訳してみたのですが、クーロン劣化のスケール則とは何なのでしょうか？それとも訳を間＞違えているのでしょうか？
クーロン効果ですね。蛍光膜に電子を照射したときに観測される初期の輝度劣化を照射電子流量と関連づけた解釈をクーロン効果といいます。参考URLのファイルをご覧になるとよいでしょう。

>「ＥＬ素子作動中のジュール熱のため、簡単にホール輸送層の結晶化を引き起こしてしまう」というような意味だ>と思うのですが、なぜジュール熱によって結晶化が起こるのかよくわかりません。
ELのホール輸送層は一般にアモルファス材料が使われます。昇温過程(ジュール熱)において材料自身のガラス転移点を超えると、分子が再配列することができるようになるので、結晶化が始まることがあります。

＞この文章のように、interface stability (界面の安定性？) というのがよくでてくるのですが、これはどういう意＞味なのでしょうか？
界面の乱れにくさのことを表しています。（平滑性やクラックの入りにくさなど）


以上、参考になれば幸いです。

参考URL：http://photo02.shinshu-u.ac.jp/ronbun/プレスジャーナル9月号.pdf

この回答への補足

わかりやすい回答ありがとうございます！
もう１点疑問が出てきてお尋ねしたいんですが、どうしてMoO3層を挟むことによってNPBの結晶化を防げるのでしょうか？

補足日時：2010/10/15 16:18

この回答へのお礼

ありがとうございます！助かりました！

お礼日時：2010/10/15 22:09