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No.1
- 回答日時:
n形半導体のキャリアは電子です。
シリコン半導体にV族元素をドープした場合、結合の数は4つです。まぁ半導体はIV族でしょうけど。これで電子1個があぶれることによって、不純物半導体になっているわけですが、シリコンと同じ結合状態であるV族元素は、電子が離れた分、プラスの極性になっているのです。p形も同じようにして考えたところ、極性はマイナスとして存在。そんな互い違いの半導体を接合させると、プラス(正孔)とマイナス(電子)は自然と引き寄せられていき、プラマイ0になって消滅。その空間にはキャリアが存在できない空間電荷領域ができます。さっき言ったとおり、n形はプラス、p形はマイナスの電気を帯びているので、n形半導体の方が電位が高くなります。これが電位障壁と言われる「電界」です。あとはこの電界にどちらから電圧をかければ電位が低くなるかおわかりでしょう。逆に接続すると電圧が増えるのでキャリアが移動できない→電流が流れない=整流作用となるのです。
電圧をかけると電位障壁が小さくなるからキャリアの移動ができる、ということです。お分かりいただけたでしょうか?学生なので、不十分な解説かもしれませんが、もし気になるところがあったらご指摘願います。
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