SiO2粒子にOH基を修飾する方法

解決済

質問者：rakuwel
質問日時：2008/11/24 18:43
回答数：1件

タイトル通りSiO2粒子にOH基を修飾する方法を探しています。いろいろ探してみたんですが、水熱処理をすればよいということはわかったんですが、水熱処理装置がないのでこの方法ではできないんです。
SiO2粒子にOH基を修飾する際の、水熱処理は水熱処理装置がなくても単純にSiO2粒子と水や塩基性の溶液中で撹拌しながら加熱するだけで大丈夫なんでしょうか？
できれば特殊な装置を使わずにSiO2粒子にOH基を修飾する方法があれば教えてください！
　

通報する

この質問への回答は締め切られました。

質問の本文を隠す

回答 (1件)

ベストアンサー優先
最新から表示
回答順に表示

No.1ベストアンサー

回答者： doc_sunday
回答日時：2008/11/24 19:51

>SiO2粒子にOH基を修飾する…

これは「シリカ」表面にＳi-Ｏ-Ｈグループを生じさせるという意味でしょうか?
シリカ表面には既に充分たくさんのＳi-Ｏ-Ｈグループが存在します。
水熱合成するのは通常「結晶系のはっきりした」「定性的に既知のシリカ」を作る時だけです。
また、水熱合成装置は十万円も出せば耐圧硝子工業様辺りで売っております。というか、ただの圧力計付きオートクレーブなら何でも良いのです。シリカ原石を入れ水を加え、pＨを調節して、あとは文献通り加熱するだけ。
特殊な装置ではなく無機結晶を扱う時の基本装置です。
今後のために一台お求めになる事をお薦めします。