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No.2
- 回答日時:
こんにちは。
半導体(シリコンウエハ)では
たとえば拡散工程で酸化膜厚測定する際
ナノスペック装置で測定したり
あるいはエリプソという装置で測定したりします。
ご質問の回答になっていなくてごめんなさい。。

No.1
- 回答日時:
ラフな測定としては.
単に回折強度を計れば.ベース金属のピーク強度に対して.酸化金属のピーク強度の比で膜が厚い・薄いがわかります。ただ.酸化膜の結晶方向がそろっている場合が多いのでASTMカード(最近名称が変わりました。新名所上忘却)の通りの回折強度を示さないのが普通です。
また.透過型X線写真が取れれば.ある程度の錆のあつさになれば.透過線量が増加します。
ヘリウムガス中で蛍光X線を測定すると酸素の影響が観察できるときもありますが.検出器(普通の検出器に比べてやたら高かなのであるところが少ない)がありますか。
あまり薦めない(検出器を壊すときがある)のですが.X線しょうかく散乱を測定することで.膜をつくるりゅうしの大きさを求めることができます。粒子が金属に直接付着しているのであれば.粒子系が膜圧になります。
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