グッドデザイン賞を受賞したウォーターサーバー >>

BARCとは何をするもののことですか?直訳すると裏面反射防止コーティングという意味らしいんですが、さっぱりわかりません。教えて下さーい。

このQ&Aに関連する最新のQ&A

A 回答 (2件)

まず、BARCはレジストを塗布する前に、塗布します。


それで、露光、現像するとレジストパターンの下にBARCが
あるという状態ですね。材質としては、レジストと似たような
有機膜が一般的です。

というわけで、次はエッチング工程ですよね。なので、エッチング
の最初にBARCをエッチングするステップを追加することになります。

ステップと言ったのは、その下のエッチング工程で、同じ装置で連続
してエッチングするのが普通だからです。

以上
    • good
    • 0
この回答へのお礼

再度のご回答ありごとうございました!!

お礼日時:2004/06/18 09:31

レジストの入射光と、レジスト底面での反射光が干渉を起こし、


レジストの厚さ方向に、強く露光される部分と弱く露光される部分
ができてしまいます。その結果、現像後、レジストの側面が波打って
しまいます。それを防止するためのものです。
BはBottomのBだったような気がします。

以上
    • good
    • 5
この回答へのお礼

ありがとうございます。
さらに聞いてもよいですか!?
BARCは役目を終えた後、どうするのですか?剥離させる?

お礼日時:2004/06/17 16:58

このQ&Aに関連する人気のQ&A

お探しのQ&Aが見つからない時は、教えて!gooで質問しましょう!

このQ&Aを見た人はこんなQ&Aも見ています

このQ&Aを見た人が検索しているワード

このQ&Aと関連する良く見られている質問

Q半導体関連のBARCの意味

レジスト関係の資料を読んでいて、
DBARC(Developable Bottom Anti Reflective Coating)
BARC's(Bottom Anti Reflective Coating)
CD(Critical dimension)
の意味がよく分かりません。
日本語に訳すと、「裏面反射コーティング」なのでしょうか?
専門的な呼び方がありますか?
調べても分からなかったため、どうぞ宜しくお願いします。

Aベストアンサー

こんばんは。
半導体関連の元・開発技術者です。

BARCは、フォトレジストの下に反射防止のために設けられた層のことです。
たとえば、配線用の金属層としてアルミを使うとき、アルミは反射が激しいため、ハレーション(光のにじみ)により、露光・現像後のレジストパターンを思ったとおりにすることが難しいです。
そこで、アルミとフォトレジストとの間に、薄い反射防止層(=BARC)をコーティングしておけば、露光・現像後のパターンの精度が向上します。


DBARD、すなわち、現像可能なBARCとは、
現像時にフォトレジストと一体で熔けてくれるBARCのことでしょう。おそらく。


CD(Critical Dimension)の dimension は、サイズのことですから、
要は、
「このサイズより小さいのはダメ、大きいのはOK」
または
「このサイズより小さいのはOK、大きいのはダメ」
ということです。
この分野に限らず、多方面で使われる言葉だと思いますし、文脈もわかりませんので断言はできませんが、
フォトレジストパターンを正常にできる、ぎりぎりの大きさということなのでしょう。


資料の中の文章を勝手に推測しますと、
BARCを使うことによりCDが小さくなり(=良くなり)、DBARCだと、さらに小さくなる(=良くなる)、
というような文章ではありませんか?


>>>専門的な呼び方がありますか?

業界の人間は、ほとんど、頭文字での略称のまんまで使いますから、
特に和訳はなくて良いと思いますが、
私がこの関係の仕事をしていた頃は、BARCのことを「反射防止膜」と呼ぶこともありました。



BARCのわかりやすい説明図が載っているサイトを見つけました。
http://www1.ocn.ne.jp/~raichi/test/raichi/tpl/tpl.html

こんばんは。
半導体関連の元・開発技術者です。

BARCは、フォトレジストの下に反射防止のために設けられた層のことです。
たとえば、配線用の金属層としてアルミを使うとき、アルミは反射が激しいため、ハレーション(光のにじみ)により、露光・現像後のレジストパターンを思ったとおりにすることが難しいです。
そこで、アルミとフォトレジストとの間に、薄い反射防止層(=BARC)をコーティングしておけば、露光・現像後のパターンの精度が向上します。


DBARD、すなわち、現像可能な...続きを読む

Q化合物半導体の用語で『リセス』の意味を教えて下さい。

はじめまして。化合物半導体業界で使われています用語で『リセス』って言葉があると思いますが、これは何を指しているのですか?ゲートの周りをエッチングする事を『リセス』と言うのですか?それは、何の為にするのでしょうか?

Aベストアンサー

わたしもWEBで調べただけなので、「自信無し」ですが、「ソースとドレイン間の溝」と書いてあります。
RECESS:休憩、奥まったところ、くぼみ

もう一つの参考URLもどうぞ。
http://www.toshiba.co.jp/tech/review/1996/07/f02/ff02z1_j.htm

これはおまけですが、綴りが書いてありました。
http://www2s.biglobe.ne.jp/~m_nori/

参考URL:http://www.nec.co.jp/japanese/today/newsrel/9505/1102.html

Qエクセル STDEVとSTDEVPの違い

エクセルの統計関数で標準偏差を求める時、STDEVとSTDEVPがあります。両者の違いが良くわかりません。
宜しかったら、恐縮ですが、以下の具体例で、『噛み砕いて』教えて下さい。
(例)
セルA1~A13に1~13の数字を入力、平均値=7、STDEVでは3.89444、STDEVPでは3.741657となります。
また、平均値7と各数字の差を取り、それを2乗し、総和を取る(182)、これをデータの個数13で割る(14)、この平方根を取ると3.741657となります。
では、STDEVとSTDEVPの違いは何なのでしょうか?統計のことは疎く、お手数ですが、サルにもわかるようご教授頂きたく、お願い致します。

Aベストアンサー

データが母集団そのものからとったか、標本データかで違います。また母集団そのものだったとしても(例えばクラス全員というような)、その背景にさらならる母集団(例えば学年全体)を想定して比較するような時もありますので、その場合は標本となります。
で標本データの時はSTDEVを使って、母集団の時はSTDEVPをつかうことになります。
公式の違いは分母がn-1(STDEV)かn(STDEVP)かの違いしかありません。まぁ感覚的に理解するなら、分母がn-1になるということはそれだけ結果が大きくなるわけで、つまりそれだけのりしろを多くもって推測に当たるというようなことになります。
AとBの違いがあるかないかという推測をする時、通常は標本同士の検証になるわけですので、偏差を余裕をもってわざとちょっと大きめに見るということで、それだけ確証の度合いを上げるというわけです。

Q蒸気圧ってなに?

高校化学IIの気体の分野で『蒸気圧』というのが出てきました。教科書を何度も読んだのですが漠然とした書き方でよく理解できませんでした。蒸気圧とはどんな圧力なのですか?具体的に教えてください。

Aベストアンサー

蒸気圧というのは、主として常温付近で一部が気体になるような物質について用いられる言葉です。

液体の物質の場合に、よく沸点という言葉を使います。
物質の蒸気圧が大気圧と同じになったときに沸騰が起こります。
つまり、沸点というのは飽和蒸気圧が大気圧と同じになる温度のことを言います。
しかし、沸点以下でも蒸気圧は0ではありません。たとえば、水が蒸発するのは、常温でも水にはある程度の大きさ(おおよそ、0.02気圧程度)の蒸気圧があるためにゆっくりと気化していくためであると説明できます。
また、油が蒸発しにくいのは油の蒸気圧が非常に低いためであると説明できます。

さきほど、常温での水の飽和蒸気圧が0.02気圧であると述べましたが、これはどういう意味かと言えば、大気圧の内の、2%が水蒸気によるものだということになります。
気体の分圧は気体中の分子の数に比例しますので、空気を構成する分子の内の2%が水の分子であることを意味します。残りの98%のうちの約5分の4が窒素で、約5分の1が酸素ということになります。

ただし、上で述べたのは湿度が100%の場合であり、仮に湿度が60%だとすれば、水の蒸気圧は0.2x0.6=0.012気圧ということになります。

蒸気圧というのは、主として常温付近で一部が気体になるような物質について用いられる言葉です。

液体の物質の場合に、よく沸点という言葉を使います。
物質の蒸気圧が大気圧と同じになったときに沸騰が起こります。
つまり、沸点というのは飽和蒸気圧が大気圧と同じになる温度のことを言います。
しかし、沸点以下でも蒸気圧は0ではありません。たとえば、水が蒸発するのは、常温でも水にはある程度の大きさ(おおよそ、0.02気圧程度)の蒸気圧があるためにゆっくりと気化していくためであると説明できま...続きを読む

Q応力と凸凹

シリコンウェハ上にSiO2等の膜を成膜した時、凸方向に反ると圧縮、凹方向に反ると引っ張り応力というろ参考書には書いてありますが、なぜそうなるのかがわかりません。シリコンウェハを圧縮しているという意味ですか?教えて下さい!

Aベストアンサー

基板の上面に薄膜があるとします。
この薄膜が圧縮応力を持っているというのは、膜は横から圧縮されている状態と同じです。つまり、膜は無理やり縮められているので、本当は伸びたいと思っています。そういう膜が基板上にあるとき、膜が欲望を出して少し伸びたら基板は上に凸になるでしょう(上面のほうが伸びるので)。薄膜が引張応力を持っているときはその逆になります。

>シリコンウェハを圧縮しているという意味ですか

上の説明でお分かりだと思いますが、薄膜の残留応力は薄膜が感じている応力のことです。薄膜が圧縮応力を持っている場合、シリコンウェハの上面( 薄膜が乗っている面 = 凸面 )は、薄膜によって無理やり引き伸ばされているので引張応力を受けています。下面( 凹面側 ) は圧縮応力を受けています。

QSOGで絶縁性の膜?

SOGという薬品(?)で絶縁性の膜を作ることができると聞きました。1.SOGとは何ですか?2.温度を高くしないといけないらしいですが何度くらいにしなくてはいけないのでしょうか?

Aベストアンサー

SOGは、Spin On Glassの略で、薬液(溶媒中にSiO2系原料を溶かしたもの)をスピン塗布(Siウェハ上に薬液をたらしながらウェハをスピンさせて全面に塗布する)させ、
その後、溶媒の揮発+化学反応させるために、約400℃
ぐらいに加熱させて、SiO2絶縁膜を形成します。

Q統計学的に信頼できるサンプル数って?

統計の「と」の字も理解していない者ですが、
よく「統計学的に信頼できるサンプル数」っていいますよね。

あれって「この統計を調べたいときはこれぐらいのサンプル数があれば信頼できる」という決まりがあるものなのでしょうか?
また、その標本数はどのように算定され、どのような評価基準をもって客観的に信頼できると判断できるのでしょうか?
たとえば、99人の専門家が信頼できると言い、1人がまだこの数では信頼できないと言った場合は信頼できるサンプル数と言えるのでしょうか?

わかりやすく教えていただけると幸いです。

Aベストアンサー

> この統計を調べたいときはこれぐらいのサンプル数があれば信頼できる・・・
 調べたいどの集団でも、ある一定数以上なら信頼できるというような決まりはありません。
 何かサンプルを集め、それをなんかの傾向があるかどうかという仮説を検証するために統計学的検定を行って、仮設が否定されるかされないかを調べる中で、どの検定方法を使うかで、最低限必要なサンプル数というのはあります。また、集めたサンプルを何か基準とすべき別のサンプルと比べる検定して、基準のサンプルと統計上差を出すに必要なサンプル数は、比べる検定手法により計算できるものもあります。
 最低限必要なサンプル数ということでは、例えば、ある集団から、ある条件で抽出したサンプルと、条件付けをしないで抽出したサンプル(比べるための基準となるサンプル)を比較するときに、そのサンプルの分布が正規分布(正規分布解説:身長を5cmきざみでグループ分けし、低いグループから順に並べたときに、日本人男子の身長なら170cm前後のグループの人数が最も多く、それよりも高い人のグループと低い人のグループの人数は、170cmのグループから離れるほど人数が減ってくるような集団の分布様式)でない分布形態で、しかし分布の形は双方とも同じような場合「Wilcoxon符号順位検定」という検定手法で検定することができますが、この検定手法は、サンプルデータに同じ値を含まずに最低6つのサンプル数が必要になります。それ以下では、いくらデータに差があるように見えても検定で差を検出できません。
 また、統計上差を出すのに必要なサンプル数の例では、A国とB国のそれぞれの成人男子の身長サンプルがともに正規分布、または正規分布と仮定した場合に「t検定」という検定手法で検定することができますが、このときにはその分布を差がないのにあると間違える確率と、差があるのにないと間違える確率の許容値を自分で決めた上で、そのサンプルの分布の値のばらつき具合から、計算して求めることができます。ただし、その計算は、現実に集めたそれぞれのサンプル間で生じた平均値の差や分布のばらつき具合(分散値)、どのくらいの程度で判定を間違える可能性がどこまで許されるかなどの条件から、サンプル間で差があると認められるために必要なサンプル数ですから、まったく同じデータを集めた場合でない限り、計算上算出された(差を出すために)必要なサンプル数だけサンプルデータを集めれば、差があると判定されます(すなわち、サンプルを無制限に集めることができれば、だいたい差が出るという判定となる)。よって、集めるサンプルの種類により、計算上出された(差を出すために)必要なサンプル数が現実的に妥当なものか、そうでないのかを、最終的には人間が判断することになります。

 具体的に例示してみましょう。
 ある集団からランダムに集めたデータが15,12,18,12,22,13,21,12,17,15,19、もう一方のデータが22,21,25,24,24,18,18,26,21,27,25としましょう。一見すると後者のほうが値が大きく、前者と差があるように見えます。そこで、差を検定するために、t検定を行います。結果として計算上差があり、前者と後者は計算上差がないのにあると間違えて判断する可能性の許容値(有意確率)何%の確率で差があるといえます。常識的に考えても、これだけのサンプル数で差があると計算されたのだから、差があると判断しても差し支えないだろうと判断できます。
 ちなみにこの場合の差が出るための必要サンプル数は、有意確率5%、検出力0.8とした場合に5.7299、つまりそれぞれの集団で6つ以上サンプルを集めれば、差を出せるのです。一方、サンプルが、15,12,18,12,21,20,21,25,24,19の集団と、22,21125,24,24,15,12,18,12,22の集団ではどうでしょう。有意確率5%で差があるとはいえない結果になります。この場合に、このサンプルの分布様式で拾い出して差を出すために必要なサンプル数は551.33となり、552個もサンプルを抽出しないと差が出ないことになります。この計算上の必要サンプル数がこのくらい調査しないといけないものならば、必要サンプル数以上のサンプルを集めて調べなければなりませんし、これだけの数を集める必要がない、もしくは集めることが困難な場合は差があるとはいえないという判断をすることになるかと思います。

 一方、支持率調査や視聴率調査などの場合、比べるべき基準の対象がありません。その場合は、サンプル数が少ないレベルで予備調査を行い、さらにもう少しサンプル数を増やして予備調査を行いを何回か繰り返し、それぞれの調査でサンプルの分布形やその他検討するべき指数を計算し、これ以上集計をとってもデータのばらつきや変化が許容範囲(小数点何桁レベルの誤差)に納まるようなサンプル数を算出していると考えます。テレビ視聴率調査は関東では300件のサンプル数程度と聞いていますが、調査会社ではサンプルのとり方がなるべく関東在住の家庭構成と年齢層、性別などの割合が同じになるように、また、サンプルをとる地域の人口分布が同じ割合になるようにサンプル抽出条件を整えた上で、ランダムに抽出しているため、数千万人いる関東の本当の視聴率を割合反映して出しているそうです。これはすでに必要サンプル数の割り出し方がノウハウとして知られていますが、未知の調査項目では必要サンプル数を導き出すためには試行錯誤で適切と判断できる数をひたすら調査するしかないかと思います。

> どのような評価基準をもって客観的に信頼できると判断・・・
 例えば、工場で作られるネジの直径などは、まったくばらつきなくぴったり想定した直径のネジを作ることはきわめて困難です。多少の大きさのばらつきが生じてしまいます。1mm違っても規格外品となります。工場では企画外品をなるべく出さないように、統計を取って、ネジの直径のばらつき具合を調べ、製造工程をチェックして、不良品の出る確率を下げようとします。しかし、製品をすべて調べるわけにはいきません。そこで、調べるのに最低限必要なサンプル数を調査と計算を重ねてチェックしていきます。
 一方、農場で生産されたネギの直径は、1mmくらいの差ならほぼ同じロットとして扱われます。また、農産物は年や品種の違いにより生育に差が出やすく、そもそも規格はネジに比べて相当ばらつき具合の許容範囲が広くなっています。ネジに対してネギのような検査を行っていたのでは信頼性が損なわれます。
 そもそも、統計学的検定は客観的判断基準の一指針ではあっても絶対的な評価になりません。あくまでも最終的に判断するのは人間であって、それも、サンプルの質や検証する精度によって、必要サンプルは変わるのです。

 あと、お礼の欄にあった専門家:統計学者とありましたが、統計学者が指摘できるのはあくまでもそのサンプルに対して適切な検定を使って正しい計算を行ったかだけで、たとえ適切な検定手法で導き出された結果であっても、それが妥当か否か判断することは難しいと思います。そのサンプルが、何を示し、何を解き明かし、何に利用されるかで信頼度は変化するからです。
 ただ、経験則上指標的なものはあります。正規分布を示すサンプルなら、20~30のサンプル数があれば検定上差し支えない(それ以下でも問題ない場合もある)とか、正規分布でないサンプルは最低6~8のサンプル数が必要とか、厳密さを要求される調査であれば50くらいのサンプル数が必要であろうとかです。でも、あくまでも指標です。

> この統計を調べたいときはこれぐらいのサンプル数があれば信頼できる・・・
 調べたいどの集団でも、ある一定数以上なら信頼できるというような決まりはありません。
 何かサンプルを集め、それをなんかの傾向があるかどうかという仮説を検証するために統計学的検定を行って、仮設が否定されるかされないかを調べる中で、どの検定方法を使うかで、最低限必要なサンプル数というのはあります。また、集めたサンプルを何か基準とすべき別のサンプルと比べる検定して、基準のサンプルと統計上差を出すに必要な...続きを読む

Qエクセルで計算すると2.43E-19などと表示される。Eとは何ですか?

よろしくお願いします。
エクセルの回帰分析をすると有意水準で2.43E-19などと表示されますが
Eとは何でしょうか?

また、回帰分析の数字の意味が良く分からないのですが、
皆さんは独学されましたか?それとも講座などをうけたのでしょうか?

回帰分析でR2(決定係数)しかみていないのですが
どうすれば回帰分析が分かるようになるのでしょうか?
本を読んだのですがいまいち難しくて分かりません。
教えてください。
よろしくお願いします。

Aベストアンサー

★回答
・最初に『回帰分析』をここで説明するのは少し大変なので『E』のみ説明します。
・回答者 No.1 ~ No.3 さんと同じく『指数表記』の『Exponent』ですよ。
・『指数』って分かりますか?
・10→1.0E+1(1.0×10の1乗)→×10倍
・100→1.0E+2(1.0×10の2乗)→×100倍
・1000→1.0E+3(1.0×10の3乗)→×1000倍
・0.1→1.0E-1(1.0×1/10の1乗)→×1/10倍→÷10
・0.01→1.0E-2(1.0×1/10の2乗)→×1/100倍→÷100
・0.001→1.0E-3(1.0×1/10の3乗)→×1/1000倍→÷1000
・になります。ようするに 10 を n 乗すると元の数字になるための指数表記のことですよ。
・よって、『2.43E-19』とは?
 2.43×1/(10の19乗)で、
 2.43×1/10000000000000000000となり、
 2.43×0.0000000000000000001だから、
 0.000000000000000000243という数値を意味します。

補足:
・E+数値は 10、100、1000 という大きい数を表します。
・E-数値は 0.1、0.01、0.001 という小さい数を表します。
・数学では『2.43×10』の次に、小さい数字で上に『19』と表示します。→http://ja.wikipedia.org/wiki/%E6%8C%87%E6%95%B0%E8%A1%A8%E8%A8%98
・最後に『回帰分析』とは何?下の『参考URL』をどうぞ。→『数学』カテゴリで質問してみては?

参考URL:http://ja.wikipedia.org/wiki/%E5%9B%9E%E5%B8%B0%E5%88%86%E6%9E%90

★回答
・最初に『回帰分析』をここで説明するのは少し大変なので『E』のみ説明します。
・回答者 No.1 ~ No.3 さんと同じく『指数表記』の『Exponent』ですよ。
・『指数』って分かりますか?
・10→1.0E+1(1.0×10の1乗)→×10倍
・100→1.0E+2(1.0×10の2乗)→×100倍
・1000→1.0E+3(1.0×10の3乗)→×1000倍
・0.1→1.0E-1(1.0×1/10の1乗)→×1/10倍→÷10
・0.01→1.0E-2(1.0×1/10の2乗)→×1/100倍→÷100
・0.001→1.0E-3(1.0×1/10の3乗)→×1/1000倍→÷1000
・になります。ようするに 10 を n 乗すると元の数字になるた...続きを読む

Qリフトオフプロセス

リソグラフィ関連の話で、リフトオフプロセスという言葉がでてきました。
レジストに関する言葉のようですが、正確な意味がわからないので教えていただきたいです。
よろしくお願いします。

Aベストアンサー

リソグラフィー(あるいはフォトリソグラフィー)とは半導体集積回路などの製造工程において、ウェハ(基板)表面に2次元パター
ンを形成する方法ですが、リフトオフ・プロセスとはフォトリソグラフィー工程の一種です。
通常、フォトリソグラフィーと言うと、次の工程を指し示します。

(1)基板上にレジストを塗布する(普通、適度にベイクさせた後、基板を高速回転しながらレジスト液を滴下し、均一に基板表面に
 塗布します。また塗布後、レジストと基板との密着性を高めるために加熱処理します)。
(2)マスクやレティクルを利用して露光する(パターンが印刷されているマスクを基板に近接させて、光を当てる。レジストは光が
 照射された部分のみ化学的に変質します)。
(3)現像および加熱処理(現像液によって変質したレジストを溶かします。所望のパターンに沿ってレジストを溶かしたことになり
 ます。その後加熱処理を行います)。
(4)エッチングなどを行う(ここで例えばエッチャントなどに浸けると、レジストの無い部分の基板のみがエッチングされ、基板上
 にパターンに沿った段差を形成することができます)。
(5)剥離する(最後にレジストを剥離液などで除去します)。

さて、リフトオフとは、上記の(4)の後に、金属蒸着を行う場合などに利用されます。上記(4)の後、次のようにします。
(5')蒸着する((4)でエッチングをしたとき、エッチャントが段差の側面をも溶かし(サイドエッチと言う)、レジストによって
 ヒサシができます。このヒサシが重要です。このヒサシのお陰で、レジスト上に蒸着された金属膜とエッチングされた部分に成膜
 された金属膜とを断絶できます。またこのとき、金属を蒸着するとき、レジストを一種のマスクに使っていることになります)。
(6')剥離する(最後にレジストを剥離液などで除去。そのとき、レジスト上の金属膜も一緒に取り除かれます)。
このようにすると、蒸着された金属はちょうど(4)でエッチングされた部分に入り込む形で残ります。パターンに沿った金属膜が形成
できるわけです。
「リフトオフ」という言葉は、多分、最後の(6')の過程で、レジスト上に余分に成膜された金属膜を、レジストが持ち上げて(lift)
取り除く(off)、ということから出来た言葉です。文章では分かりにくいと思うので、上記の工程を絵にしてみます。

(1)
■■■■■■■■■■レジスト
□□□□□□□□□□基板
□□□□□□□□□□

(2)
↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓光
▲▲▲▲▲↓↓▲▲▲マスク
■■■■■■■■■■レジスト
□□□□□□□□□□基板
□□□□□□□□□□

(3)現像 
■■■■■  ■■■レジスト
□□□□□□□□□□基板
□□□□□□□□□□

(4)エッチング
 エ ッ チ ャ ン ト 
■■■■■  ■■■レジスト
□□□□____□□基板
□□□□□□□□□□

(5)蒸着
◎◎◎◎◎  ◎◎◎金属膜
■■■■■  ■■■レジスト
□□□□_◎◎_□□基板
□□□□□□□□□□

(6)レジスト除去(これがリフトオフ)

□□□□_◎◎_□□
□□□□□□□□□□出来上がり

こんな絵で上手く伝わるか心配ですが、もし何かわからないことがありましたら、補足をお願いします。

リソグラフィー(あるいはフォトリソグラフィー)とは半導体集積回路などの製造工程において、ウェハ(基板)表面に2次元パター
ンを形成する方法ですが、リフトオフ・プロセスとはフォトリソグラフィー工程の一種です。
通常、フォトリソグラフィーと言うと、次の工程を指し示します。

(1)基板上にレジストを塗布する(普通、適度にベイクさせた後、基板を高速回転しながらレジスト液を滴下し、均一に基板表面に
 塗布します。また塗布後、レジストと基板との密着性を高めるために加熱処理します)。
...続きを読む

QRFフィルタ、IFフィルタについて教えてください

携帯電話等に使われているRFフィルタとIFフィルタについて教えてください。または、具体的に説明されているサイトをご存知でしたら教えてください。
SAWフィルタがよく使われていて、ノイズ除去してある周波数を取り出すというレベルでしか理解していないのですが、RFフィルタとIFフィルタはその周波数が異なるだけなのでしょうか?または使用される箇所によって呼び名が異なるのでしょうか?

Aベストアンサー

携帯電話に限らず、TV、ラジオ、FMその他ほとんどの無線機器には
スーパーヘテロダイン(略称:スーパー)方式が使われています。
簡単に言いますと目的の電波と受信機の内部で発生させた電波を混ぜて
差の周波数の電波を取り出します。
周波数変換するのは扱うのに手ごろな低い周波数にするためです。

元の受信周波数・・・(RF)
受信機の内部で発生させる電波・・・局部発振周波数
作り出された差の周波数・・・中間周波数(IF)


衛星TVの受信コンバータ(アンテナに内蔵)もこの原理を使って周波数変換しています。
10GHZ帯→2GHZ帯

混信や雑音を取り除くためにフィルターを使いますが、RF段階で使うものとIF段階で使うものが有ります。

SAW(表面弾性波or弾性表面波)フィルターは携帯などの高い周波数で使用できる優れたフィルター素子です。
SAWについては開発した富士通のHPをご覧ください。

参考URL:http://www.labs.fujitsu.com/jp/gijutsu/saw/


このQ&Aを見た人がよく見るQ&A

人気Q&Aランキング