No.7ベストアンサー
- 回答日時:
「n+」は「nと性質が違う」という意味です。
+が書かれてない領域にも濃度差は大きくあるのですが、
ある濃度を越すと、性質が違うものに変質するんですね。
変質した部分を+で表してるんです。
ICの不純物濃度は多様で+記号だけでは表しきれません。
+は、性質が違うという意味に用いられています。
>#6
そんな大文字小文字にこだわったドキュメントはあまり見ないけど、工場の社内規則かな。
一般にどんな使われかたをしてるか、無作為に検索した結果を示します。
http://www.powerdesigners.com/InfoWeb/design_cen …
http://www.power-tech.com/cartext.htm
参考URL:http://www.powerdesigners.com/InfoWeb/design_center/articles/IGBTs/igbts.shtm,http://www.power-tech.com/cartext.htm
No.6
- 回答日時:
実用的には、N+ P+ n- p- の4つを覚えておけばよいと思います。
(なぜか、+/-と大文字/小文字が連動していますが、習慣がそんなもんだと思ってください。)
N+ は、N型不純物濃度の高いN型
→N型MOSFETのソース・ドレイン
P+ は、P型不純物濃度の高いP型
→P型MOSFETのソース・ドレイン
n- は、N型不純物濃度の薄いN型
→P型MOSFETのNウェル
p- は、P型不純物濃度の薄いP型
→N型MOSFETのPウェル
濃度の値は、おおむね、
N+,P+ が、面積1cm^2当たり1E15程度の原子個数以上の不純物(ヒ素/ホウ素)を0.1μm~1μm程度の薄さの中に押し込めたもの、
n-,p- が、面積1cm^2当たり1E14程度の原子個数以下の不純物(リンかヒ素/ホウ素)を1μm程度以上の厚さに拡散させたもの
です。
濃度が高い・薄いには、物理的な意味もあるのですが、一番頭の中で理解しやすい、一つ目のことがあります。
シリコン基板全体、あるいは、表面からある程度深い深さまでの領域をP型にしたくて、かつ、ごく表面の0.5μmだけをN型にしたいときは、どうしますか?
このとき、いちばん簡単な方法は、予め薄い濃度のP型をシリコン基板全体あるいは表面からある程度深い深さまで作っておきます。しかる後に濃い濃度のN型不純物をごく表面に打ち込めば、ごく表面にあった薄いP型は濃いN型に打ち消されて、完全にN型になってしまいます。
(他の事に例えれば、薄いアルカリ溶液に濃い酸を加えれば、アルカリが打ち消されて、完全に酸になってしまうのと同じようなことです)
このように、NPの濃度の差を桁違いに付けることが、PN接合をつくる、最も簡単な方法なのです。
だから、N+ P+ n- p- という4種があるのです。
なお、N+ドレインのすぐ横に小さいn-領域を作ったり、P+ドレインのすぐ横に小さいp-領域を作ったりする技術も、最近では広く用いられています。これらは、トランジスタの電圧耐性や寿命をアップさせる技術です。
No.5
- 回答日時:
>#2単に「通常のNやPよりも多い」のではなく、
n+,p+と書かれてある領域とは、不純物準位が広がってフェルミ準位がn形では伝導帯中、p形では価電子帯中に位置してる(キャリアが縮退した)領域である、という意味です。それがトンネル効果を生じます。
さらにn++,p++も使われます。
No.4
- 回答日時:
不純物の濃度が高い領域を意味してます。
例えばトランジスタのエミッタ領域;エミッタ(放出するもの)の文字どおりキャリアを豊富に出すためのn+。
もう一つ代表的なのは電極を付けるための高濃度領域;電極金属と半導体の接合は一種のダイオードになり得るが、高濃度で空乏層が極めて薄ければトンネル電流が通って 整流作用の方は無視できる。 配線の金属が電極にも使えたりして製造の工数が減る長所があります。
No.3
- 回答日時:
多分、#2の方の回答であっていると思います。
PNPやNPNのトランジスタで、P同士、N同士のドナー濃度を同じにすると、極性がなくなってしまうため、
片側の濃度を大きくして、PN接合の拡散電位に差をつけているのだと思います。ちなみに、N+,P+側が、エネルギーが低くなるため、コレクタ側になっていると思います。
No.1
- 回答日時:
もし質問の答えになっていなかったらごめんなさい。
多分トランジスタの極性を表しているのだと思います。
N+がNPN型トランジスタ、P+がPNP型ではないかと思います。
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