いつでも医師に相談、gooドクター

私の理解では、
シリカへのDNA吸着の原理は、
(1)chaotropic sustanceにより、シリカの疎水性を弱めて親水性を高める。
(2)過剰のカルシウムイオンにより、負の電荷を帯びたシリカの表面にカルシウムイオンが結合することで、シリカの表面が正の電荷を帯びる。
これにより、親水性でかつ負の電荷を帯びた核酸を選択的に結合させる。
これでよろしいのでしょうか?
また、(1)は具体的にはどういうことなのでしょうか?

gooドクター

A 回答 (1件)

(1) のchaotropic sustance は「substance」の誤記でしょうね。



http://www.shiyaku-daiichi.jp/products/by_maker/ …

参考URL:http://venturewatch.jp/nedo/20050830.html
    • good
    • 0

お探しのQ&Aが見つからない時は、教えて!gooで質問しましょう!

このQ&Aを見た人はこんなQ&Aも見ています

gooドクター

人気Q&Aランキング