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シリカへのDNA吸着の原理

締切済

  • 質問者：usagi-kirin
  • 質問日時：
  • 回答数：1件

私の理解では、
シリカへのDNA吸着の原理は、
（１）chaotropic sustanceにより、シリカの疎水性を弱めて親水性を高める。
（２）過剰のカルシウムイオンにより、負の電荷を帯びたシリカの表面にカルシウムイオンが結合することで、シリカの表面が正の電荷を帯びる。
これにより、親水性でかつ負の電荷を帯びた核酸を選択的に結合させる。
これでよろしいのでしょうか？
また、（１）は具体的にはどういうことなのでしょうか？

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A 回答 (1件)

No.1

  • 回答者： gori8063
  • 回答日時：

(1) のchaotropic sustance　は「substance」の誤記でしょうね。



http://www.shiyaku-daiichi.jp/products/by_maker/ …

参考URL：http://venturewatch.jp/nedo/20050830.html
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