TFT製造装置の中に"イオンドープ"、"レーザーアニール(アニール)"がありますがこれらの装置はどの様なプロセスを担当しているのでしょうか?また、これは低温ポリ独特の装置なのでしょうか...書籍、HPでも結構なので教えて下さい。

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A 回答 (1件)

イオンドープ:不純物をドーピングする装置です。

半導体ではイオン注入(ion implantation)とよくいいますね。恐らく初期のTFT用のものはイオンの質量分析をしなかったため、implantationではなくdopingといったのではないでしょうか。ちなみにTFTプロセスではソース/ドレイン形成に使用します。

レーザーアニール:これは低温ポリ特有のプロセスでしょう。アモルファスシリコンに照射して局所的に溶融・結晶化させ、ポリシリコンを形成します。ガラス基板を使用するために基板全体を高温にできない、という制約から考えられた方法です。
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