ＸＲＤ薄膜法での結晶性評価の仕方について教えてください

ポリマーの薄膜（500nm程度）の結晶性を、XRD装置を使って薄膜法（入射角0.5°前後に固定、2θスキャン）で評価しようとしています。取り合えず、作製方法の違いによって薄膜（基板はガラス）の結晶性がどう変わるかを定性的に比較したいのですが、得られたプロファイルの評価の仕方がもうひとつよく分かりません。単に、主要なピークの半値幅を比較すればいいのでしょうか？また、この場合、θ-2θ法で同様な比較をするのとどう違うのでしょうか？ご存知の方よろしくお願いします。

No.1 ベストアンサー 回答者： umaibocheese 回答日時： 2008/05/26 22:36

結晶性を調べるのであれば、半値幅を比較すればよいと思います。

半値幅は結晶子の大きさに依存しますので。

薄膜試料をXRD測定する際にθー2θ法で測定しない理由は、基板の影響が2θ法では出てきてしまうためです。(薄膜法では入射角が小さいので、基板の影響が出にくい。)

この回答へのお礼

回答ありがとうございました。これで、安心して評価できます。

お礼日時：2008/05/28 09:45